Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS20V #9293251 zu verkaufen

KLA/TENCOR Candela CS20V ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die den anspruchsvollen Anforderungen der Masken- und Wafer-Inspektion in der Halbleiterherstellung gerecht wird. Mit fortschrittlichen Bilderfassungs- und Verarbeitungsalgorithmen erreicht das System eine beispiellose Präzision und Wiederholbarkeit. KLA CANDELA CS 20 V nutzt hochauflösende Bildgebungstechnologie für bildgebende Maskenfeatures bis zu 0,5 μ m. Es kombiniert die Bildgebung von tiefem Ultraviolett (DUV) und sichtbarem Licht, wodurch das Gerät sowohl unter- als auch überätzte Funktionen erkennen kann. Die Abbildungsoptik ist für höchste Auflösung und geringe Geräuschpegel mit einem Dynamikbereich von bis zu 1000:1 optimiert. Die Maschine verwendet fortschrittliche Fehlererkennungsalgorithmen, um Fehler an Masken und Wafern genau zu identifizieren. Defekte können bis zu 0,2 μ m klein erkannt und nach Art und Größe klassifiziert werden. Es bietet sowohl eine Fehlalarmreduzierung als auch einen verbesserten Durchsatz durch eine Kombination aus Fehlerpriorisierung, automatisiertem Stufenscannen und Bildverbesserungstechniken. Neben der Fehlererkennung bietet TENCOR CANDELA CS 20-V auch eine breite Palette von Prozesscharakterisierungsfunktionen. Es bietet volle Wafer-Topographie-Analysefunktionen, die die Messung von Merkmalsprofil, Filmdicke, Schritthöhen und Ätztiefe ermöglichen. Erweiterte Messungen kritischer Bemaßungen (CD) werden ebenfalls unterstützt, mit dem Tool, das eckgerundete, 45 ° Seitenwand und überätzte KEs messen und analysieren kann. CANDELA CS-20 V ist auf Benutzerfreundlichkeit und Robustheit ausgelegt. Es ist in einem Gehäuse aus Edelstahl untergebracht und verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche mit anpassbaren Menüs, einfachen Zugriff auf Asset-Einstellungen und einem Touchscreen-Display. Das Modell ist in der Lage, felderwertbare Komponenten, die eine einfache Ausstattung Rekonfiguration ermöglicht und bietet eine hohe Modularität. KLA/TENCOR CANDELA CS 20 V ist ein fortschrittliches und leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem für den Einsatz in den anspruchsvollsten Halbleiterherstellungsanwendungen. Die Kombination aus hochauflösender Bildgebungstechnologie, fortschrittlichen Fehlererkennungsalgorithmen und Prozesscharakterisierungsfunktionen ermöglicht es dem Gerät, hochgenaue Ergebnisse mit hohem Durchsatz und Wiederholbarkeit zu liefern.