Gebraucht KLA / TENCOR CRS 1010 #51182 zu verkaufen

KLA/TENCOR CRS 1010 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird, um mögliche messtechnische Fehler und optische Defekte in Photomasken- und Wafersubstraten zu identifizieren. Das System verwendet eine hochauflösende Hellfeld/Dunkelfeld-Bildgebungseinheit mit fortschrittlicher Optik und hochauflösenden digitalen Verarbeitungsfunktionen, um jede Maske/jeden Wafer auf Fehler zu untersuchen. KLA CRS 1010 ist in der Lage, bis zu vierundzwanzig Maskenplatten oder Wafer gleichzeitig zu inspizieren, was einen schnelleren Durchsatz und einen höheren Durchsatz bei hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Das bildgebende Werkzeug der Maschine besteht aus zwei Detektoren, einem Hellfeld- und Dunkelfelddetektor. Der Hellfelddetektor dient zur Erkennung von Partikelfehlern, während der Dunkelfelddetektor zur Erkennung von optischen Fehlern verwendet wird. Das Imaging-Asset arbeitet mit verschiedenen Vergrößerungen, sodass Benutzer Funktionen bis zu 0,2 µm und kleiner überprüfen können. Die automatisierte Fehlerklassifizierung des Modells erkennt und klassifiziert Partikel, Nanostrukturen und Dislokationen mit fehlerhafter Autofokussierung und präziser Messung jedes Fehlers. TENCOR CRS 1010 ist mit verschiedenen erweiterten Funktionen ausgestattet, um die Inspektionsfähigkeit zu verbessern und eine bessere Prozesskontrolle zu ermöglichen. Es verfügt über erweiterte Filterauswahl, die eine genaue Erkennung von Fehlern ermöglicht. Benutzer können Filtereinstellungen pro Anwendung anpassen und ihre eigenen Farbparameter für eine genaue Fehlererkennung festlegen. Die Software ermöglicht es Benutzern auch, eigene Schwellenwerte zu definieren und die Fehlersortierung anzupassen. Darüber hinaus umfasst die Ausrüstung die Chargeninspektion, so dass Benutzer mehrere Substrate gleichzeitig inspizieren können. Das CRS 1010 System ist auf Zuverlässigkeit und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt. Es nutzt eine sichere, geschlossene Roboterabwicklung und Substratzentrierung, um eine präzise Masken-/Wafer-Positionierung zu gewährleisten und das Risiko von Probenschäden zu reduzieren. Darüber hinaus enthält das Gerät eine Luftstufe für den Probentransport, die eine saubere, staubfreie Umgebung für die Inspektion bietet. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche können Benutzer die Maschine schnell und einfach programmieren und eine schnelle und genaue Einrichtung, Ausführung und Analyse ermöglichen. Abschließend ist KLA/TENCOR CRS 1010 ein fortschrittliches Inspektionswerkzeug, das für die genaue und präzise Masken- und Waferinspektion entwickelt wurde. Dank der hochauflösenden Bildgebung und der automatisierten Fehlerklassifizierung können Benutzer Fehler auf Masken- und Substratoberflächen schnell und einfach erkennen. Die intuitive Benutzeroberfläche, der schnelle Durchsatz und die zuverlässige Leistung machen es zu einem idealen Gerät für die Masken-/Wafer-Inspektion und sorgen für höhere Erträge und eine bessere Prozesskontrolle.