Gebraucht KLA / TENCOR CRS 1010 #9392790 zu verkaufen

KLA/TENCOR CRS 1010 ist eine „Maske & Wafer Inspektion“ Ausrüstung, die Fehler in Halbleiterscheiben und Photomasken erkennen kann. Es nutzt fortschrittliche Optik und ein Bildverarbeitungssystem, um Muster in Defekten und Materialien zu analysieren. KLA CRS 1010 ist eine vollautomatische Einheit, die eine Reihe von Komponenten verwendet, um umfassende Inspektionsmöglichkeiten bereitzustellen. Die Hauptkomponenten sind: eine optische Bildverarbeitungsmaschine, eine Bewegungsbühne, eine Kamera und ein Controller. Das Tool enthält außerdem die ergonomische Frontend-Oberfläche eines Inspektors und eine Anwendersoftware zur Steuerung und Analyse von Daten. Das optische Gut von TENCOR CRS 1010, das sowohl helle Feld- als auch Dunkelfeldbilder erfasst, besteht aus einem Hochvergrößerungsmikroskop, einer hochgenauen motorisierten linearen Bühne und einer empfindlichen hochauflösenden Digitalkamera. Die Optik bietet eine Auflösung von 1,5 Mikrometern, so dass das Modell auch kleinste Fehler genau erkennen kann. Die Bewegungsstufe erlaubt eine hohe Abtastgeschwindigkeit, steuert aber auch die Steigung, Rolle und Gierigkeit des Mikroskops, um eine dreidimensionale Bildanalyse zu ermöglichen. Die Bildverarbeitungsausrüstung von CRS 1010 analysiert Muster sowohl in Defekten als auch in Materialien und ermöglicht dem System eine zuverlässige Fehlerklassifizierung und Quantifizierung. Der Controller ist in der Lage, die Kamera und die Bühne zu lenken, während er auch die Bilderfassung und Vorverarbeitung, den Bildvergleich und die Speicherung von Testergebnissen übernimmt. Die benutzerfreundliche Software von KLA/TENCOR CRS 1010 ermöglicht die vollständige Automatisierung der Datenanalyse und Berichterstattung an Qualitäts- und Prozesskontrollanwendungen. Es enthält auch integrierte Informationen wie Rezeptmanagement, visuelle Hilfsmittel für die Gestaltung von Experimenten und statistische Prozesskontrolle. KLA CRS 1010 ist eine äußerst zuverlässige und präzise Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die Defekte mit hoher Präzision erkennen und Endanwendern die Optimierung von Prozessfähigkeiten ermöglichen kann. Zuverlässige Fehlerklassifizierung und Quantifizierung helfen Herstellern, die mit der Fehlererkennung verbundenen Kosten erheblich zu senken und gleichzeitig eine umfassende Rückverfolgbarkeit für die Berichterstattung und Analyse zu gewährleisten.