Gebraucht KLA / TENCOR CRS 1010S #293735887 zu verkaufen

KLA/TENCOR CRS 1010 S ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für effiziente und zuverlässige optische Inspektionen von Halbleiterbauelementen. Dieses System enthält eine 3-dimensionale (3D) Autofokuskamera, die genaue Messungen von Probenprofilen und -formen ermöglicht. Sie ermöglicht es den Anwendern, feingeometrische Details bis zu einer Größe von 3 Mikrometern zu erkennen, was eine präzise Fehlererkennung sowohl für Masken als auch für Wafer ermöglicht. KLA CRS 1010 S bietet eine intuitive Schnittstelle für automatisierte Fehlerinspektionen, Fehlerüberprüfungen und Messungen. Es nutzt eine umfassende Bibliothek von Inspektionsalgorithmen und Tools, mit denen Benutzer Fehler schnell und genau lokalisieren, auswerten und messen können. Dieses Gerät verfügt über einen breiten Betriebsbereich von 5x bis 300x und bietet die höchste Vergrößerungsauflösung (5 nm), die auf dem Markt für Masken- und Waferinspektion verfügbar ist. Es ist mit einer hochauflösenden 8-Megapixel-Digitalkamera mit 64-Bit-Farbtiefe ausgestattet. Dieses Gerät unterstützt sowohl CCD als auch CMOS-Bildaufnahme. Die erweiterte Teileerkennungsfunktion hilft, den Geräteprüfprozess zu automatisieren, indem Partikel auf dem Wafer identifiziert und deren Größe, Form und Position gemessen werden. Es kann Partikel bis zu 3 Mikrometer-Größen erkennen, was bei der Inspektion auf Kontaminationsquellen wichtig ist. TENCOR CRS 1010 S bietet darüber hinaus hervorragende Rückseiteninspektionsmöglichkeiten und bietet Anwendern eine eingehende Untersuchung von Defekten und Partikelansammlungen auf der Rückseite der Probe. Darüber hinaus ermöglicht die Maschine eine schnelle Analyse durch eine Mustererkennungsfunktion, die Wafer- oder Maskenmuster automatisch an eine Bibliothek erwarteter Muster aus verschiedenen Quellen anpassen kann. Diese Funktion ermöglicht eine präzise Fehlererkennung von Linien-, Platz- und Symmetriemustern. Darüber hinaus kann CRS 1010 S aufgrund seiner hohen Scangeschwindigkeit bis zu 450 Wafer pro Stunde mit beispielloser Genauigkeit verarbeiten. KLA/TENCOR CRS 1010 S hat eine Reihe von leistungsstarken Optionen zur Verbesserung der Qualitätskontrolle in Halbleiterfertigungslinien; Dazu gehören Maskenfehlererkennung, Rückseiteninspektion, Mustererkennung und Partikelmessung. Dies macht das Werkzeug ideal für alle Arten von Qualitätskontrollanwendungen in der Halbleiterproduktion. KLA CRS 1010 S wurde entwickelt, um eine zuverlässige, effiziente und präzise Inspektionsbestandteil für Maske und Wafer Produktion bieten.