Gebraucht KLA / TENCOR CRS 1010S #293830273 zu verkaufen

KLA/TENCOR CRS 1010S ist eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die für Fehler- und Fehlererkennungsfunktionen entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, mit beispielloser Geschwindigkeit und Genauigkeit bis 0,2 Mikrometer zu überprüfen. Es kann eine breite Palette von Defekten, wie Kratzer, Unebenheiten, Partikel und andere Ungleichmäßigkeiten zu erkennen. KLA CRS 1010S bietet auch hochpräzise Erkennung für andere Produktionsprobleme, wie Schlupf und Neigung, Ebenheit, Chromschichtdicke und Gefälle. Das Gerät kombiniert eine Reihe fortschrittlicher Komponenten, um äußerst zuverlässige Ergebnisse zu erzielen. Seine Benutzeroberfläche erstellt automatisch benutzerdefinierte Kalibrierdaten, die in einer Datenbank gespeichert werden, um eine konsistente und genaue Inspektion zu gewährleisten. Die Maschine verfügt über ein 500 kHz helles Feld auf der Bühnenkamera und eine integrierte Kamerasteuerung mit OneView-Technologie, um Bildrauschen zu reduzieren und gleichzeitig außergewöhnliche Bildqualität und Auflösung zu bieten. Das Tool nutzt auch die neueste Hot-Swap-Phasenschiebetechnologie, um die Genauigkeit von Phasendifferenzmessungen zu erhöhen und gleichzeitig die Inspektionszeit zu reduzieren. Darüber hinaus bietet TENCOR CRS 1010S erweiterte Wafer- und Maskenanalysetools, einschließlich Schritthöhenmessungen und Interferometrie. Durch seine konfokale Igrad-Erkennungs- und Analysefähigkeit kann es Defekte an Kanten sowie kleine, schwache und/oder klare Defekte identifizieren, so dass sie schnell und effizient behoben werden können. Zum Vergleich von Werkzeug-zu-Werkzeug oder Technologie-Knoten-zu-Knoten bietet CRS 1010S auch Wafer-Level-Overlay-Messungen. Diese Kombination aus Technologien und Analysetools ermöglicht es dem Asset, Daten schnell und genau zu verarbeiten, um höchste Qualitätsstandards zu gewährleisten. KLA/TENCOR CRS 1010S eignet sich hervorragend für die Inspektion von Masken- und Wafertechnologien der nächsten Generation sowie einer Vielzahl von Substraten für die Geräteherstellung. Dieses Modell bietet außergewöhnliche Leistung für Maskierung, Messtechnik, Düsenbindung und Photolithographie. Die leistungsstarke Kombination aus fortschrittlichen Komponenten, Technologien und Analysetools ermöglicht es dieser Ausrüstung, höchste Genauigkeit und Geschwindigkeit bei der Inspektion von Masken- und Waferkomponenten zu liefern.