Gebraucht KLA / TENCOR CRS 3100 #9207492 zu verkaufen

KLA/TENCOR CRS 3100 Mask & Wafer Inspection Equipment bietet eine leistungsstarke Lösung zur Inspektion und Analyse von Produktionslinien mit hohem Durchsatz von Halbleiterscheiben. Dieses automatisierte Inspektionssystem verwendet hochempfindliche bildgebende Technologie, um Mikrofehler auf den Waferoberflächen mit extrem hoher Genauigkeit und Klarheit zu identifizieren. Darüber hinaus ermöglicht KLA CRS 3100 auch eine ausgeklügelte In-Die-Prüfung und Analyse, um isolierte Mikrofehler zu erkennen, die in den Wafer-Disks versteckt sind. Das Herzstück der TENCOR CRS 3100 Maschine ist eine spezialisierte optische Baugruppe, die eine hochempfindliche Vollreflexionsbildgebung der Waferscheibe ermöglicht, und eine CCD-Kamera, die mehrere Bilder der Waferoberfläche im sequentiellen Aufnahmemodus aufnimmt. CRS 3100 Werkzeug ist auch flexibel auf die Art der Wafer, die inspiziert werden können, da es sowohl Slicon und Gallium Arsenide Wafer Scheiben mit ebenso hoher Präzision und Genauigkeit unterstützen kann. Dieses Produkt enthält auch ein fortschrittliches, 6-achsiges Gimbal-Positioniergerät mit einer Auflösung von 1,5 Mikrometern, das eine hochpräzise Ausrichtung des Wafers auf der optischen Bühne ermöglicht. Das Modell KLA/TENCOR CRS 3100 ist auch in der Lage, Waferplatten mit optischer Fehlererkennung (OFD) zu inspizieren, um Fehler auf der oberen Oberfläche des Wafers zu erkennen. Dieses OFD-Modul verwendet einzigartige fortgeschrittene Sensortechniken, um die Empfindlichkeit der Fehlererkennung zu optimieren und zu verbessern und auch kleinere Defekte zu erkennen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über ein Auto FE-SEM-Probenahmesystem, das mit elektronenmikroskopischen Techniken beschädigte Schichten auf der Oberfläche eines Wafers elektrochemisch zur weiteren Fehleranalyse ätzt. Schließlich ist KLA CRS 3100 Einheit entworfen, um den Durchsatz des Waferscheiben-Inspektionsprozesses zu maximieren. Es ist mit einer fortschrittlichen Benutzeroberfläche ausgestattet, die es einfach macht, Inspektionsparameter einzurichten und einzugeben, und bietet umfassende und kundenspezifische Inspektionsrezepte. Darüber hinaus bietet die Maschine auch sehr geringe Ausfallzeiten, so dass der Benutzer Inspektionsparameter schnell und effizient anpassen und für maximale Genauigkeit und Geschwindigkeit optimieren kann. Mit diesen innovativen Funktionen und fortschrittlichen Spezifikationen ist das TENCOR CRS 3100 Mask & Wafer Inspection Tool als eine der Top-Lösungen für die fortschrittliche Halbleiterwaferinspektion positioniert.