Gebraucht KLA / TENCOR CS20 #293661222 zu verkaufen

KLA / TENCOR CS20
ID: 293661222
Surface measurement system.
KLA/TENCOR CS20 ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Fehlerinspektionsanlage, die speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein komplettes System mit automatisierter Bildaufnahme, verbesserten Fehlererkennungsalgorithmen und umfassenden Datenanalysefunktionen. Es ermöglicht eine effiziente, hochpräzise Erkennung und Klassifizierung unterschiedlichster struktureller und elektrischer Defekte. KLA CS20 Maske & Wafer Defekt Inspektionseinheit verwendet hochauflösende Laser-Bildgebungstechnik für die Inspektion von Photomasken und Wafern. Dies liefert extrem detaillierte Bilder und Informationen über Mängel, die in den Strukturen der Maske oder des Wafers auf der Produktionslinie vorhanden sind. Fortgeschrittene Algorithmen analysieren diese Bilder, um die vorhandenen Fehler zu erkennen und zu quantifizieren. TENCOR CS 20 Maschine verfügt auch über leistungsstarke und dennoch intuitive Datenanalyse- und Berichtsfunktionen. Das Werkzeug verteilt erkannte Defekte in der Maske oder Waferdaten in mehrere Klassen und identifiziert genau, welche Art von Defekten jeder einzelne ist. Diese Informationen können verwendet werden, um Fehler schnell zu analysieren, Ursache und Schwere zu ermitteln und eine zuverlässige Bewertung und Berichterstattung über die Prozessqualität zu ermöglichen. Darüber hinaus wird das Benutzererlebnis durch eine klare und benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche weiter verbessert und bietet verschiedene maßgeschneiderte Displays, um die Ergebnisse verschiedener Analysearten schnell anzuzeigen. Benutzer können Grenzen festlegen und bestimmte Fehler herausfiltern, mehrere Bilder schnell vergleichen und Inspektionsergebnisse im Kontext anzeigen. Schließlich bietet KLA CS 20 auch eine Vielzahl von Funktionen, um Gefahren im Zusammenhang mit der Produktionsumgebung zu begegnen, einschließlich der Verwendung von Auto-Gating zum Schutz des Personals vor Laserstrahlung und der Einführung von Modellabweisungskriterien. Abschließend ist TENCOR CS20 Masken- und Wafer-Defektprüfgeräte eine hochmoderne Lösung, die speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Ausgestattet mit fortschrittlichen bildgebenden Funktionen und modernsten Fehlererkennungsalgorithmen bietet das System genaue, zuverlässige Fehlererkennung und -klassifizierung, klare Datenanalyse, maßgeschneiderte Displays und integrierte Sicherheitsfunktionen. Es ist ein umfassendes Paket für eine sichere, schnelle und kostengünstige Qualitätskontrolle in der Halbleiterproduktion.
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