Gebraucht KLA / TENCOR CV300 #9244817 zu verkaufen

KLA/TENCOR CV300 ist eine hochentwickelte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine hochwertige Halbleiterprozesssteuerung und führende optische Inspektionstechnologie bietet. Der mehrstufige Inspektionsprozess des Systems ermöglicht es, Wafer zu einer Zykluszeit von weniger als einer Sekunde zu inspizieren, so dass sie Fehler schnell erkennen und diagnostizieren können. Seine Inspektionstechnologie ist ideal für die CMOS-Prozesssteuerung, da es in der Lage ist, Merkmale auf mehreren Skalen zu erkennen und auszuwerten, vom Nanometer bis zum Submikron und darüber hinaus. Die optische Inspektionseinheit von KLA CV300 ist ein integraler Bestandteil ihrer Prozesssteuerungssuite mit einer multispektralen Bildgebungsmaschine, einer Hochvergrößerungsoptik und einer automatisierten Fehlerklassifizierung auf Basis von Bildanalysealgorithmen für maximale Fehlerauflösung. Das Tool nutzt auch fortschrittliche KLA-Partikelinspektionstechnologie, um Partikelgrößen von 100 µm bis 20 nm zu analysieren. Darüber hinaus umfasst es Funktionen wie Overlay-Messung, die Messtechnik auf Stempelebene und Oberflächendefektscans, die alle zur weiteren Verbesserung der Fehlererkennung und -analyse verwendet werden können. TENCOR CV300 verfügt zudem über eine Reihe fortschrittlicher Asset-Funktionen wie ein automatisches Kalibrieren, eine benutzerfreundliche Oberfläche, umfassendes Messberichte und effiziente Datenverwaltungstools. Es enthält Software zur Anzeige und Steuerung von Prozessdaten sowie Werkzeuge zur Anpassung kritischer Defektgeräte, Datenanalyse und Prozessoptimierung. Das Masken- und Wafer-Inspektionsmodell ist auf maximale Modularität ausgelegt und ermöglicht eine Reihe von Konfigurationsoptionen, die spezifischen Prozessanforderungen entsprechen. Seine benutzerfreundlichen Eigenschaften und sein robustes Design machen es äußerst zuverlässig, während seine hochpräzisen optischen und Partikel-Detektionsmechanismen eine überlegene Wafer- und Die-Level-Inspektion bis in den Sub-Micron-Maßstab ermöglichen. Zusammenfassend ist CV300 Masken- und Waferinspektionsanlage eine All-in-One-Lösung zur Prozesskontrolle und -inspektion. Mit seinen fortschrittlichen Optik-, Partikelerkennungs- und Multi-Scale-Inspektionsmöglichkeiten wurde es entwickelt, um die Prozesskontrolle zu vereinfachen und Prozessschritte zu reduzieren und gleichzeitig die höchsten Qualitätsstandards für Genauigkeit und Geschwindigkeit zu erhalten.