Gebraucht KLA / TENCOR EAIM+ #9304331 zu verkaufen

KLA/TENCOR EAIM + ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine zuverlässige und genaue Methode zur Inspektion fortschrittlicher Photomasken und blanker Siliziumscheiben im Nanometermaßstab bietet. Dieses System ist eine automatisierte Box-in-Box-Messtechnik, die eine einfache und effiziente Möglichkeit bietet, sowohl spiegelnde als auch diffraktive Oberflächendefekte zu erkennen. Das Gerät verwendet eine Kombination aus hochauflösender Bildgebung und automatisierter Messtechnik durch fortgeschrittene analytische Algorithmen, um auch kleinere Fehler zu erkennen, die sonst für das Auge versteckt sein könnten. Die KLA EAIM + Maschine kann Mikrofehler wie Nadelöcher, zerlegte Partikel, Gräben, Kreuzungen und Hohlräume auf den Oberflächen von Photomasken und blanken Siliziumscheiben erkennen. Das TENCOR EAIM + -Werkzeug besteht aus einer vollautomatischen Maskeninspektion, einer umfangreichen Feature-Bibliothek, einer flexiblen Inspektionsplattform und einem standardisierten Workflow. Es wird von fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmen angetrieben, die eine Reihe von Fehlern mit Leichtigkeit erkennen und quantifizieren. Erweiterte Mustererkennungsfunktionen, gepaart mit einer robusten Suchmaschine, ermöglichen es dem Modell, komplizierte Fehlerfunktionen genau zu identifizieren und zu klassifizieren. Die EAIM + -Ausrüstung verfügt auch über eine automatisierte Workflow-Engine zur Spezifizierung, Planung und Durchführung des Inspektionsprozesses. Dies trägt dazu bei, die mit der manuellen Inspektion verbundenen Zeit und Kosten zu reduzieren, indem der Prozess automatisiert und konsistente und effiziente Ergebnisse gewährleistet werden. Die Workflow-Engine ermöglicht auch eine einfache Rückverfolgbarkeit und Dokumentation und bietet detaillierte Audit-Trails des gesamten Inspektionsprozesses. Das auf einer modularen Plattform aufgebaute System ist auch in der Lage, verschiedene Inspektionsszenarien basierend auf benutzerdefinierten Parametern auszuführen. Dies macht es zu einer sehr geeigneten Option zur Photomaskierung von Anwendungen verschiedener Maßstäbe und Komplexität. Zusammenfassend ist KLA/TENCOR EAIM + eine zuverlässige und vielseitige Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die eine Reihe von Funktionen und Fähigkeiten bietet, die auf die Herstellung hochwertiger, fehlerfreier Photomasken und blanker Siliziumscheiben ausgerichtet sind. Diese Maschine ist benutzerfreundlich, effizient und präzise und daher die ideale Wahl für strenge und präzise Inspektionsprozesse.