Gebraucht KLA / TENCOR eDR-5200 #9161799 zu verkaufen

KLA/TENCOR eDR-5200 ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung der nächsten Generation, die die höchsten Anforderungen erfüllt. Es bietet beispiellose Leistung sowie hohe Geschwindigkeiten und außergewöhnliche Genauigkeit. Zu den Hauptmerkmalen des Systems gehören ein großes Sichtfeld, ein effizienter Bildgebungspfad und eine hochentwickelte Strahlscaneinheit. KLA eDR-5200 verfügt über ein großes Bildfeld (FOV) von bis zu 9000 x 9000 Mikrometer. Diese erweiterte FOV ermöglicht eine große Flächenabdeckung für Wafer- und Maskeninspektion mit minimalem Aufwand. Gepaart mit integrierter Optik, bildgebenden Technologien und fortschrittlicher Beleuchtung ist diese Maschine in der Lage, Bilder von höchster Qualität zu erzeugen. Darüber hinaus verfügt das Tool über einen optimierten Bildgebungspfad, der eine optimale Bildklarheit und -qualität bietet. Mit dem Bildsensor und den Analysetechnologien ist das Asset in der Lage, Fehler in anspruchsvollen Mustern und Formen zu erkennen, wie z. B. auch kleine Kratzer, Verunreinigungen, Vorsprünge und andere Substratunregelmäßigkeiten. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine hochentwickelte Strahlabtasteinrichtung, die auf die spezifischen Anforderungen der zu inspizierenden Masken und Wafer zugeschnitten ist. TENCOR eDR-5200 ist für schnelle und zuverlässige Leistung konzipiert, und sein Strahlabtastsystem ist in der Lage, einen ganzen 4 "-Wafer in weniger als 30 Minuten zu scannen. EDR-5200 ist ein fortschrittliches Werkzeug zur Inspektion von Masken und Wafern. Es verfügt über einen großen FOV, einen stromlinienförmigen Bildgebungspfad und eine ausgeklügelte Strahlabtasteinheit, die es ermöglicht, die komplexesten Inspektionsaufgaben mit unglaublicher Geschwindigkeit und Genauigkeit durchzuführen. Mit der Weiterentwicklung der Halbleiterfertigungsanlagen bleibt KLA/TENCOR eDR-5200 ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion.