Gebraucht KLA / TENCOR eDR-5210 #293755073 zu verkaufen

KLA/TENCOR eDR-5210 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die 3D-kohärente Beleuchtungstechnologie zur hochpräzisen Fehlererkennung verwendet. Dieses System ist für den Einsatz in einer Halbleiterherstellungsumgebung konzipiert und bietet eine breite Palette von Inspektionsmöglichkeiten. Es eignet sich sowohl für Spitzen- als auch für Altgeräte und kann sowohl für Produktions- als auch für Forschungszwecke verwendet werden. Das Gerät besteht aus einer 13 Megapixel gemusterten Farb-CCD-Kamera, die mit einem großformatigen Objektiv ausgestattet ist. Diese erfasst Bilder der befindlichen Vorrichtung und übermittelt diese an die Hauptsteuereinheit. Die Maschine verfügt über eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche und intuitive Einrichtungsmöglichkeiten, die es dem Bediener ermöglichen, Parameter für die Fehlerinspektion und -messung schnell anzupassen. Es bietet auch leistungsstarke automatisierte Funktionen für Bildkalibrierung und -messung sowie Fehlerklassifizierung. KLA eDR-5210 ist mit integriertem 3D kohärentem Beleuchtungswerkzeug ausgestattet. Diese Funktion nutzt die patentierte „MODLESS“ -Scantechnologie, die die Fehlererkennung und -analyse erheblich verbessern soll. Darüber hinaus ist das Asset in der Lage, gleichzeitig Phasen- und Dunkelbilder zu erfassen und gleichzeitig ein konsistentes Beleuchtungsniveau beizubehalten. Das Modell ist auch mit einem umfassenden Satz von Fehlerklassifizierungsalgorithmen ausgestattet, um die Genauigkeit zu gewährleisten. Dazu gehören Algorithmen zur Klassifizierung von Oberflächenfehlern, Techniken zur Verbesserung des Bildkontrasts, automatisierte Charakterverfolgung und -auswertung, Strategien zur Verbesserung der Helligkeit und Analyse der Unterauflösungsfunktionen. Zusätzlich wird jedes Fehlerbild mit einer zugeordneten Fehlerkategorie und Fehlerschwere versehen. Schließlich bietet TENCOR EDR 5210 eine hervorragende Flexibilität und Skalierbarkeit. Es kann einfach konfiguriert werden, um verschiedene Arten von Aufgaben zu adressieren und kann an individuelle Lösungsanforderungen angepasst werden. Darüber hinaus kann es in andere Softwaresysteme zur Datenverwaltung, Berichterstattung und Fehleranalyse integriert werden. Insgesamt ist TENCOR eDR-5210 ein fortschrittliches und hochgenaues Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Es nutzt 3D kohärente Beleuchtung und patentierte MODLESS Scantechnologien und bietet überlegene Fehlererkennung Präzision und Zuverlässigkeit. Darüber hinaus bietet das Gerät eine umfassende Fehlerklassifizierungsanalysemaschine sowie eine hervorragende Flexibilität und Skalierbarkeit. Damit ist sie sowohl für die Produktion als auch für die Forschung in der Halbleiterindustrie eine gute Wahl.