Gebraucht KLA / TENCOR eDR-5210 #9278887 zu verkaufen
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ID: 9278887
Wafergröße: 12"
Defect review SEM, 12"
SMC Thermo Chiller
Power supply CONE RC
Handler:
(2) Load ports / Fix load
BROOKS Robot and aligner and controller
Aligner:
OXFORD 51-1100-109 Dry cool monitory
OXFORD 51-1100-108 Dry cool control
INCA 51-1100-103 X-Strear
Main body:
OXFORD INCA DOL7967 Dry cool
EDWARD Turbo Molecular Pump (TMP)
VARIAN Ion pump
Control rack:
VARIAN Ion pump controller
EDWARDS STP-301-U DOC TMP Controller
TMC DC-2000 Precision valve controller
(2) Reset power supplies
High voltage power supply
Motion controller
Main PC
Does not included Hard Disk Drive (HDD)
Power distribution.
KLA/TENCOR eDR-5210 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wurde entwickelt, um Fehler in Wafern sowie andere Präzisionsfehler auf Maskenebene zu erkennen und zu analysieren. Das System ist in der Lage, Wafer bis 200 mm Durchmesser und eine Vielzahl von Maskentypen zu handhaben. Zu den Hauptkomponenten des Geräts gehören eine optische Inspektionsmaschine, eine Wafer-Mapping-Stufe, ein digitaler Bilderkennungsalgorithmus und eine integrierte Metrologie-Konsole. Das optische Inspektionswerkzeug ist ein hochauflösendes, hyperspektrales bildgebendes Element, das Bilder der Waferoberfläche erfasst. Die Wafer-Mapping-Stufe ist ein mehrachsiges Positionierungsmodell, das eine präzise Messung der Oberfläche des Wafers ermöglicht. Der Bilderkennungsalgorithmus dient zur Identifizierung und Kategorisierung von Fehlern. Schließlich bietet die integrierte Metrologie-Konsole eine abschließende Überprüfung der Daten, um die Genauigkeit zu gewährleisten. KLA eDR-5210 ist mit einer Vielzahl fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, um die Produktivität zu verbessern. Darüber hinaus ist die Ausrüstung für einfache Installation und Wartung konzipiert, so dass es eine gute Option für Halbleiter-Produktionslinien. TENCOR EDR 5210 bietet ein breites Anwendungsspektrum, von der Maskenprüfung und Fehleranalyse bis zur Inspektion und Überprüfung von Lithographie-Schablonen. Dank seiner hochwertigen und zuverlässigen Bildaufnahmefähigkeiten ist es eine gute Wahl für die Inspektion von Masken und Wafern. Das System ist effizient und liefert präzise Ergebnisse. Auch der Bilderkennungsalgorithmus und die Metrologie-Konsole sorgen für Genauigkeit. KLA EDR 5210 ist eine ausgezeichnete Wahl für die Inspektion und Analyse von Masken und Wafern in der Halbleiterherstellung. Mit hochgenauer Bildaufnahme und einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ist es eines der zuverlässigsten Systeme auf dem Markt und wird für eine optimale Produktivität sehr empfohlen.
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