Gebraucht KLA / TENCOR eDR-5210 #9278890 zu verkaufen

KLA/TENCOR eDR-5210 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die zur Inspektion fortschrittlicher Halbleiterbauelemente bei der Produktionsbewegung entwickelt wurde. Dieses System bietet vielseitige Inspektionsmöglichkeiten in Kombination mit fortschrittlicher Bildgebungs- und Analysetechnologie, um sicherzustellen, dass Funktionen, Defekte und andere Eigenschaften eines Geräts ordnungsgemäß gemessen werden. Das Gerät verfügt über eine zweiachsige Waferstufe, die den meisten industriellen Größenanforderungen für eine einheitliche Wafer-Topographie gerecht wird. Es verfügt außerdem über ein 4x4 "M2.5-Sichtfeld mit einer Pixelgröße von 0,55 µm × 0,55 µm. Die Maschine verwendet die HADL-Technologie (High Accuracy Defect Location), eine hochauflösende, hochpräzise Bildgebungstechnologie, die Fehler von weniger als 0,3 µm in einem 360-Grad-Sichtfeld erkennen kann. Das Tool enthält auch einen intelligenten Scan-Muster-Algorithmus (ISPA) für verbesserte Einheitlichkeit. ISPA wurde entwickelt, um Fehler automatisch zu erkennen und spezifische Fehlergrenzen basierend auf Prozessvariablen und Materialzusammensetzungen, Batch-Prozessparametern und Spezifikationseinstellungen durchzusetzen. Darüber hinaus bietet das Asset proprietäre Tools zur intelligenten Oberflächenanalyse (ISA), einschließlich der einzigartigen Partikelidentifikationstechnologie (UPI), zur Erkennung und Charakterisierung von Partikeln, Linienbreiten und Hohlräumen. Das Modell verwendet die neuesten Bildgebungs- und Beleuchtungstechnologien, die LED-basierte 3D-Beleuchtung, LED-basierte Mehrfachebenenbeleuchtung, einen VSS-Modus (Variable Spot Size) zur suchlosen Fehlererkennung und Laserreflektometrie für verbesserten Kantenkontrast umfassen. Es bietet auch einen leistungsstarken 16-Bit-Bildprozessor mit Echtzeit-digitaler Bildverarbeitung, um Defekt- und Partikelinformationen schnell zu berechnen. Schließlich bietet KLA eDR-5210 eine Auswahl von drei Softwarepaketen: KLA Desktop Explorer, AOI Express Software und AOI Integrated Software. Diese Pakete bieten Funktionen wie Echtzeit-Datenanalyse, benutzerdefinierte Berichtsgenerierung, Analyse und Überwachung, Wafer und Die Mapping sowie Partikel- und Fehlerverfolgung. Darüber hinaus bietet das Gerät erweiterte Datenexport-Funktionen, so dass Kunden Daten in eine Vielzahl von externen Mess- und Analysetools exportieren können. TENCOR EDR 5210 ist ein fortschrittliches, vielseitiges Masken- und Waferinspektionssystem, das branchenführende Bild- und Analysefunktionen bietet. Mit seinen hochmodernen Beleuchtungs-, Bildgebungs- und Analysetechnologien können Kunden darauf vertrauen, dass ihre Inspektionsergebnisse zuverlässig und präzise sind. Das Gerät bietet den Vorteil einer erhöhten Datengenauigkeit und umfassenden Fehlererkennung und -analyse für eine Vielzahl fortschrittlicher Halbleiterbauelemente und integrierter Schaltungen.