Gebraucht KLA / TENCOR eDR-5210 #9397336 zu verkaufen

KLA/TENCOR eDR-5210 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind eine fortschrittliche Messtechnik-Plattform, die zur hochauflösenden Fehlererkennung und tiefgreifenden Analyse fortschrittlicher Photomaske- und Wafer-Muster entwickelt wurde. Es ist ein Multi-Mode-System, das sowohl in Hellfeld- als auch in Dunkelfeldbeleuchtungen arbeiten kann, die Bildgebung mit hohem Kontrast ermöglicht und standardmäßige kommerzielle Dunkelfeld-, Ringfeld- und lineare Polarisationsmodi verwendet. Dedizierte algorithmische Funktionen erleichtern zudem die nahtlose Fehlererkennung und Analyse von Photomasken-, Retikel- und Wafermustern. Das Gerät verfügt über eine maximale Feldgröße von 50 cm mit einer Bildauflösung von 0,05 µm und einer Schrittweite von 1 µm und ist damit eines der höchstauflösenden Systeme auf dem Markt. Es ist mit aktiven Autofokussierungsfunktionen, einer Autostufen-Maschine, fortschrittlichen Beleuchtungssystemen und Auto-Masken-Abruf- und Handhabungsfunktionen ausgestattet. Darüber hinaus verfügt das Tool über einen fortschrittlichen CMOS-Bildgebungsdetektor, der einen schnelleren Betrieb und eine verbesserte Schussgeräuschleistung gewährleistet. Die KLA- eDR-5210 umfasst auch leistungsstarke fortschrittliche KI-basierte Algorithmen, mit denen Bilder analysiert werden können, um verschiedene Arten von Fehlern zu erkennen. Darüber hinaus bietet das Asset eine breite Palette an erweiterten Analyse- und Reporting-Tools, mit denen Benutzer Fehlerdaten schnell und einfach visualisieren und dokumentieren können. Insgesamt bietet das Masken- und Waferinspektionsmodell TENCOR EDR 5210 eine umfassende Lösung zur Inspektion von Photomasken- und Wafermustern. Die Kombination aus leistungsstarken Algorithmen und fortschrittlicher Bildauflösung sorgt für eine robuste und zuverlässige Ausrüstung zur Fehlererkennung und -analyse.