Gebraucht KLA / TENCOR eDR-5210S #9390422 zu verkaufen

KLA/TENCOR eDR-5210S ist eine führende Masken- und Waferinspektionsanlage. KLA eDR-5210S ist für die Herstellung von Masken und Wafern konzipiert und bietet eine umfassende Lösung zur Erkennung von Defekten. TENCOR eDR-5210S verwendet modernste Bildtechnologie, um subtile, komplexe Defekte an einer Vielzahl von Photomasken und Wafern zu erkennen. EDR-5210S enthält eine hochauflösende, hochauflösende B&W CCD-Kamera mit einer telezentrischen Optik, die eine Apertur von über 400 Mikrometern bietet. Eine benutzerdefinierte Bildverarbeitungsalgorithmologie kombiniert mit einem leistungsstarken eingebetteten Computer ermöglicht eine ultraschnelle Verarbeitung von Bildern. Die Bildverarbeitungsfunktionen von KLA/TENCOR eDR-5210S es auch ermöglichen, komplexe Muster wie Überbrückung, kritische Dimensionsfehler (CD), Musterverschiebungen und Fehlausrichtungen zu identifizieren. Die KLA eDR-5210S wurde mit einer offenen Architektur für die flexible Integration in eine bestehende oder geplante Testplattform konzipiert. Die Einheit hat volle Kompatibilität mit 25mm und 30mm Masken, und Wafer mit verschiedenen Substraten. TENCOR eDR-5210S hat auch die Möglichkeit, mit Software und Hardware von Drittanbietern zu kommunizieren. Die Maschine nutzt modernste Mikroerosionstechnologie, die es ihr ermöglicht, kleinere Defekte mit einer Auflösung von 2 Mikrometern zu erkennen. Neben der Fehlererkennung bietet eDR-5210S auch eine umfassende Waferqualitätsbewertung, Messung von Gleichmäßigkeit, Oberflächenrauhigkeit, Linienbreite und Musterintegrität. Die erweiterten Programmierfunktionen des Tools umfassen eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) mit einer intuitiven Menüstruktur zum Erstellen und Ändern von Inspektionsskripten und Menüs, die zur schnellen Skizze potenzieller Fehler entwickelt wurden. Das Asset hat auch die Möglichkeit, Bilddaten für die zukünftige Verwendung zu speichern. KLA/TENCOR eDR-5210S unterstützt auch eine breite Palette von Testprotokollen, einschließlich Maskenätzen, Röntgenbildern und Oberflächenscannen. KLA eDR-5210S ist ideal für die Maskenherstellung und die Waferinspektion und bietet das anspruchsvollste und vielseitigste Inspektionsmodell auf dem Markt. Mit seinen erweiterten Bildverarbeitungsfunktionen, der hochauflösenden Kamera und der flexiblen Programmierung kann TENCOR eDR-5210S eine genaue und zuverlässige Erkennung von Masken- und Waferdefekten gewährleisten.