Gebraucht KLA / TENCOR EFEM #9276743 zu verkaufen

KLA/TENCOR EFEM ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die zur Bearbeitung von Produktionsinspektionsanforderungen für lichtempfindliche Quarzmasken bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es nutzt proprietäre fortgeschrittene Inspektionstechnologien wie helles Feld, dunkles Feld und DPD-Bildgebung (Digital Path Difference), um Fehler wie Partikel und Fremdmaterialien auf der Maske und dem Wafer zu identifizieren, was eine genaue Messung subtiler Unterschiede zwischen beiden ermöglicht. Das KLA EFEM-System kann mit sichtbaren bis UV-nahen Lichtquellen und einer Reihe von optischen Schnittstellen wie Objektiven, Lupen, Nadelöchern und Treuhand-Markern konfiguriert werden, so dass es Masken und Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 25 cm in feiner Auflösung inspizieren kann. Es umfasst auch Fehlererkennungs- und Fehlermarkierungsmöglichkeiten, die eine schnelle Fehlerbewertung und -analyse ermöglichen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über ein flexibles Softwarepaket, das an verschiedene Aufgaben angepasst werden kann, wie die Auswahl der optimalen Inspektionshelligkeit, die automatische Fokussierung und die Anzeige von Fehlerbildern. TENCOR EFEM Maschine ist entworfen, um Kosten niedrig zu halten und gleichzeitig ein hohes Maß an Genauigkeit zur Verfügung zu stellen. Seine Inspektionsmöglichkeiten werden durch den Einsatz mehrerer Technologien weiter verbessert, kombiniert mit einem optischen Hochgeschwindigkeitsspektrometer zur Erfassung von Größen-, Form- und Positionsinformationen für jeden einzelnen Defekt. Darüber hinaus kann es mit einem automatisierten Werkzeug konfiguriert werden, das in der Lage ist, Fehlerdaten weiter zu verarbeiten, um falsche und reale Fehler zu trennen und so den effektivsten Fluss von Produktionsdaten zu ermöglichen. EFEM bietet Die-to-Die-Inspektion, ein vielseitiges und benutzerfreundliches Asset und erweiterte Bildverarbeitungsfunktionen, die eine automatisierte Fehleranalyse bis ins kleinste Detail ermöglichen. Es ist in der Lage, Inspektionen an ein- und zweiseitigen Wafern durchzuführen und kann mit einem breiten Spektrum an speziellen Kalibrierungen und Kalibrierungsfeldgrößen konfiguriert werden. Das Modell ist auch in der Lage, mit anderen Fertigungsanlagen wie Ätz- und Messtechnik-Systemen zu integrieren, was einen automatisierten Vergleich und eine Fehlererkennung ermöglicht. Insgesamt ist KLA/TENCOR EFEM eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die entwickelt wurde, um hochgenaue Ergebnisse bei minimalem Aufwand zu liefern. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Quarzmasken und Wafern bis 25 cm Durchmesser zu überprüfen, und bietet eine Reihe von eingebauten automatisierten Funktionen für eine schnelle Analyse von Fehlern.