Gebraucht KLA / TENCOR EFEM #9276751 zu verkaufen

KLA/TENCOR EFEM (Edge and Film Emission Metrology Equipment) ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionslösung zur genauen Erkennung von Defekten in Halbleiterprozessen. Das System verwendet fortschrittliche hochauflösende Bildgebungstechniken, um Profile der geätzten Oberfläche des Geräts zu erstellen und die Zusammensetzung des resultierenden Filmstapels zu messen. Dies ermöglicht hochpräzise und granulare Messungen von Innendüsenvariationen der übertragenen Photomaskenmerkmale und des lichtempfindlichen Materials und der auf einem Wafer vorhandenen Merkmale. KLA EFEM-Einheit kombiniert die Effizienz einer automatisierten Maschine mit der Genauigkeit eines menschlichen Bedieners. Es wird entwickelt, um Mikrodefekte so klein wie 20nm zu erkennen, mit einer typischen Erkennungsrate von 98%. Das Tool ist sowohl in differenzierenden als auch in nicht differenzierenden Konfigurationen verfügbar. Die differenzierende Konfiguration ermöglicht es dem Bediener, die Variation innerhalb der Matrize schnell zu erkennen, und die nicht differenzierende Konfiguration ermöglicht eine genauere Charakterisierung von großflächigen Merkmalen auf der gesamten Waferoberfläche. Das Asset besteht aus Hardware, Software und Zubehör, das eine umfassende Prozesskontrolle bietet. Es umfasst die Reflektometrie der globalen Kantenemission (GEM) und die Reflektometrie der Filmemission (FEM), die beide fortgeschrittene Bildgebung und Analyse verwenden. Das Modell enthält auch niedrige kV-Bildgebung; gemusterte Schnittstelle (PI); multispektrale Bildgebung (MSI); Kanten-/Filmmesstechnik (EDFEM); strukturierte Leitermesstechnik (PCM); und parametrische Steuerung (PA); alle bieten umfassende Lösungen zur genauen Messung der physikalischen Eigenschaften der Substrate. Neben der Sichtprüfung können TENCOR EFEM-Geräte auch eine breite Palette von Prozesssteuerungsfunktionen bereitstellen. Es enthält eine Reihe von eingebetteten Sensoren, die Prozesssteuerungs-Setups unterstützen, die eine hochgenaue Identifizierung von Ungleichmäßigkeiten in der Prozessuniformität (PU) sowie andere Prozessvarianten ermöglichen. Das System bietet auch komplette Musterabstimmungsfunktionen, die es Benutzern ermöglichen, Ungleichförmigkeiten durch Anpassung von Musterabstimmungsparametern zu identifizieren und auszunutzen. EFEM ist auf Skalierbarkeit ausgelegt und kann unabhängig von Größe und Komplexität an die Bedürfnisse der Hersteller angepasst werden. Sein vielseitiges Design ermöglicht ein hohes Maß an Individualisierung und eine umfassende Prozesssteuerung, was die Kosten im Zusammenhang mit der Maskenherstellung erheblich reduziert. Mit seinen fortschrittlichen Bildgebungsfunktionen und Prozesskontrollfunktionen ist das Gerät ein wesentlicher Partner für jeden Halbleiterhersteller.