Gebraucht KLA / TENCOR es20 #9093683 zu verkaufen

KLA/TENCOR es20 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, mit der Defekte in Silizium-Wafern erkannt werden können. Mit einem hochauflösenden Bildsensor und automatischer Fehlerklassifizierung kann KLA es20 auch sehr kleine Defekte genau erkennen. Das System verwendet Helligkeitsfeldbeleuchtung und einen Bildsensor, um Weißlichtbilder des Wafers und seiner Defekte zu erfassen. Diese Bilder werden dann von der Defektklassifizierungsmaschine bearbeitet, die fehlerhaft positive Fehlererkennungen beseitigt und jedem Defekt einen Klassifizierungstyp zuordnet. Das Gerät verfügt über einen patentierten Defektklassifizierungsmotor, der eine breite Palette von Fehlertypen wie CD, Höhe, Dotierstoff und Partikelfehler erkennen kann. TENCOR es20 verwendet eine 8-Zoll-Wafer-Handhabungsmaschine mit einem CCD-Bildsensor mit einer Auflösung von 1600x1200. Dieser Bildsensor hat eine optimale numerische Apertur von 0,39 und eine Pixelgröße von 0,04 Mikrometern, die eine Bildauflösung von 9 Mikrometern ermöglicht. Die Defektklassifizierungs-Engine verwendet eine Kombination aus fortschrittlichen Algorithmen und Mustererkennungstechniken, um Fehler genau zu identifizieren und Klassifizierungstypen zuzuweisen. Seine Echtzeit-Funktion ermöglicht es dem Benutzer, die tatsächliche Struktur des Fehlers zu identifizieren, was eine schnellere Fehlerklassifizierung ermöglicht. Es20 verfügt auch über Advanced Maskless Repair (AMR) -Technologie, die erkannte Fehler automatisch reparieren kann. Das Werkzeug verwendet einen fokussierten Ionenstrahl (FIB), um den Fehler zu entfernen, so dass eine automatische Fehlerreparatur ohne die Notwendigkeit eines kostspieligen Maskensatzes möglich ist. KLA/TENCOR es20 hat die Flexibilität, in eine bereits bestehende Produktionslinie integriert zu werden. Das Asset nutzt eine Reihe von Prozessdateneingängen, einschließlich Anzeige-, Steuerungs-, Kommunikations- und Messtechnikdaten. Dadurch kann der Bediener die Modellparameter einfach konfigurieren und den Betrieb für unterschiedliche Fehlerbedingungen und Waferkonfigurationen anpassen. Zusammenfassend ist KLA es20 eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die mit ihrem hochauflösenden Bildsensor und ihrem automatischen Defektklassifizierungsmotor kleine Defekte erkennen kann. Seine erweiterten Funktionen, wie die AMR-Technologie, ermöglichen es Benutzern, erkannte Fehler automatisch zu reparieren, ohne dass kostspielige Maskensätze erforderlich sind. Die Flexibilität des Systems, in eine bereits bestehende Produktionslinie integriert zu werden, macht es auch für viele Halbleiterhersteller zu einer idealen Wahl.