Gebraucht KLA / TENCOR es20 #9145312 zu verkaufen

KLA/TENCOR es20 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Die KLA es20 kombiniert fortschrittliche Bildgebung, automatisierte Fehlererkennung, automatisierte Überprüfung und umfangreiches Engineering-Know-how und liefert überlegene Ergebnisse. Die bildgebende Komponente von TENCOR es20 liefert hochauflösende Bilder von Siles in einem einzigen Scan, wodurch die Scanzeit und das Probenvolumen reduziert werden. Bilder werden mit einer 5 Megapixel VARMITouch Digitalkamera und fortgeschrittenen optischen Elementen aufgenommen, einschließlich einer Bank mit 4 Lichtquellen und einem Präzisions-Xenon-Strobe. Dadurch wird sichergestellt, dass Siles genau erkannt, gemessen und analysiert werden. Die automatisierte Fehlererkennungskomponente von es20 wird von fortschrittlichen AOI- und SEM-Algorithmen angetrieben. Kalibrierdaten ermöglichen es dem System, eine Vielzahl von Defekten automatisch zu erkennen, darunter Partikel, Punktfehler, Linienfehler und Fraktaldefekte. KLA/TENCOR es20 hat auch die Fähigkeit, kontrastarme Muster zu erkennen, wie sie in 1-2 μ m Schichtdicken geätzt werden. Die automatisierte Prüfkomponente von KLA es20 nutzt die Fehlerdaten, die durch die Bildgebungs- und Fehlererkennungstechnologien abgerufen werden. Die KI-gestützte Integration von Bildverarbeitung und kontextsensitiven Fehlerklassifizierern von TENCOR es20 sorgt für eine genaue automatisierte Überprüfung von Chips und Werkzeugen. Dies reduziert den Zeitaufwand für die manuelle Überprüfung, so dass Proben schneller und effizienter verarbeitet werden können. Das Engineering-Team von es20 ist bestrebt, unsere Kunden umfassend zu unterstützen. Ihr Know-how reicht über die Algorithmen hinaus, die die Wafer-Inspektion beschleunigen - das Team bietet auch Anleitungen für Kundenfabriken und Technologieknoten sowie maßgeschneiderte Wissenstrainings, um die maximalen Ergebnisse von KLA/TENCOR es20 zu gewährleisten. KLA es20 ist ein fortschrittliches Masken- und Waferinspektionssystem, das unseren Kunden höchste Genauigkeit bei der Waferinspektion bietet. Seine 5-Megapixel-Digitalkamera, Lichtquellen, AOI und SEM-Algorithmen, automatisierte Überprüfung, technische Expertise und umfassende Unterstützung sorgen dafür, dass die Ergebnisse sowohl optimiert als auch wiederholbar sind.