Gebraucht KLA / TENCOR es20 #9198565 zu verkaufen

KLA/TENCOR es20 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Das System bietet hohe Auflösung, hohe Geschwindigkeit und automatisierte Inspektion von Photomasken und Wafern mit Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Das KLA es20-Modell ist ein Upgrade der beliebten UCK-10-Einheit und wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Anforderungen der Branche an die Masken- und Waferinspektion zu erfüllen. Die Maschine verfügt über eine optische Projektionssäule mit festem Blickfeld, die Wafer mit 100 mm, 200 mm und 300 mm Durchmesser aufnehmen kann. Das Tool ist auch mit einer Hochleistungs-CCD-Kamera ausgestattet, die Bilder aus dem Wafer mit einer Auflösung von 12,3 Megapixel pro Bild aufnimmt. Der Wafer wird von einer Anordnung roter LEDs beleuchtet, um von der zu untersuchenden Maske oder Scheibe reflektiertes Licht zu sammeln. Das Asset umfasst auch eine Reihe von Tools wie einen programmierbaren Fehlermodus, ein automatisches Ausrichtungsmodell und eine Fokuserkennungsausrüstung. Das Inspektionssystem verwendet eine Reihe von Software-Algorithmen, um Fehler an der Maske oder dem Wafer zu identifizieren und zu klassifizieren. Dazu gehört der Einsatz von Spektroskopie zum Nachweis von Partikeln und Kristallen auf der Oberfläche der Maske oder des Wafers. Das Gerät ist auch in der Lage, zwischen Einzel- und Mehrleitungsfehlern zu unterscheiden, sowie Fehler unter der Oberfläche zu erkennen. Das Modell TENCOR es20 ist für eine schnelle und zuverlässige Fehlererkennung konzipiert, einschließlich Wafer- und Gerätefehlern wie Kratzern und Gruben sowie ertragswirksamen Merkmalen wie Pinholes, Hohlräume und Partikeln. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Vielzahl von Filtern und Werkzeugen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, die erfassten Daten auf verschiedene Weise zu analysieren und zu verarbeiten. Dies beinhaltet die Verwendung von Bildverarbeitung, um das Bild zu verbessern und Fehler zu identifizieren, und die Fähigkeit, 3D-Bilder zu erzeugen, um eine fehlerfreie Maske oder einen Wafer darzustellen. Insgesamt ist das Masken- und Waferinspektionswerkzeug es20 eine innovative und fortschrittliche Lösung für kritische Masken- und Waferinspektionsanforderungen. Das Asset kombiniert fortschrittliche Bilderfassungstechnologie, Software-Algorithmen und verschiedene Tools, die es ideal für die schnelle und zuverlässige Erkennung und Bewertung von Fehlern machen. Mit seiner hohen Auflösung und Genauigkeit, der automatisierten Inspektionstechnologie und der schnellen Fehlererkennung ist das Modell KLA/TENCOR es20 eine ideale Wahl für Halbleiterhersteller, die ihre Masken- und Waferinspektion auf das höchste Niveau bringen möchten.