Gebraucht KLA / TENCOR es20xp #9137120 zu verkaufen

KLA/TENCOR es20xp ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung von Defekten und Prozesssteuerungsproblemen in der Halbleiterproduktion. Das System verwendet hochauflösende Hardware und fortschrittliche Software-Algorithmen, um Halbleitermasken und Wafer mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit zu überprüfen. Zu den Komponenten gehören eine Hardware-Inspektionseinheit, eine computergestützte Inspektionsmaschine (CAI) und eine Bedienerschnittstelle. Das Hardware-Tool bietet zwei Hauptfunktionen: Bildgebung und Fehlerinspektion. Der erste Schritt des Asset ist die Abbildung, die ein hochauflösendes Bild des Wafers oder der Maske erfasst. Dieses Bild wird dann verwendet, um ein Muster von KEs zu erzeugen, die identifiziert und mit dem gewünschten KE-Satz verglichen werden. Wenn irgendwelche Fehler gefunden werden, repliziert das Modell den Fehler auf einem Bild zur weiteren Analyse. Der zweite Schritt der Ausrüstung ist die Fehlerinspektion. Der Inspektionsprozess besteht typischerweise aus zwei weiteren Schritten. Zuerst führt das System einen Oberflächenscan durch und sucht dann nach Anomalien im Wafer- oder Maskenmuster. Sobald Abweichungen erkannt werden, markiert die Einheit diese als Fehler und bewertet ihre Schwere weiter. Der CAI bietet die Möglichkeit, Inspektionsprogramme zu speichern, wiederkehrende Aufgaben zu automatisieren und Daten zu analysieren. Diese Maschine ist entworfen, um die Zeit zu reduzieren, die es braucht, um eine Inspektion abzuschließen und die Genauigkeit und Spezifität zu erhöhen. Zu den Komponenten gehören Mustersuch-/Übereinstimmungsalgorithmen, statistische Prozesssteuerungssoftware und Tools zur Datenbankintegration. Schließlich ist die Bedienerschnittstelle für einfache Manövrierbarkeit und verbesserte Benutzerfreundlichkeit ausgelegt. Diese Schnittstelle ermöglicht es dem Benutzer, das Tool schnell zu programmieren, die Bilder zu überprüfen und die Prüfergebnisse zu überprüfen. Es ermöglicht auch die Optimierung der Anlage für eine bestimmte Anwendung oder Inspektion Ziel. Abschließend ist das Modell KLA ES20 XP eine anspruchsvolle und effiziente Masken- und Waferinspektionsanlage mit mehreren Komponenten. Mit hochauflösender Hardware, fortschrittlichen Software-Algorithmen und benutzerfreundlicher Schnittstelle ist das System in der Lage, Fehler genau und schnell zu erkennen und Prozesse im Halbleiterherstellungsprozess zu steuern.