Gebraucht KLA / TENCOR es20xp #9253037 zu verkaufen

KLA/TENCOR es20xp ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die in der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es ermöglicht die Erkennung von Defekten in Masken und Wafern, die sonst mit herkömmlichen Inspektionstechniken nicht nachweisbar sind. KLA ES20 XP-System verwendet eine Kombination aus fortschrittlicher Optik und Software, um Siliziumfehler bis in den Nanometermaßstab zu erkennen. Dieses Gerät ist in der Lage, Funktionen auf einem Wafer mit einer Auflösung von 5nm zu überprüfen. Mit Hilfe einer hellen Lichtquelle hilft TENCOR ES 20 XP Fehler mit hohem Kontrast und unübertroffener Wiederholbarkeit zu erkennen. Darüber hinaus ermöglicht fortschrittliche Software KLA/TENCOR ES 20 XP, Fremdpartikel und Unvollkommenheiten genau zu erkennen. TENCOR es20xp verwendet optische Mikroskopietechniken. Dies ermöglicht eine klare, verstärkte Sicht auf die Oberfläche des Wafers, ohne dass Linsen oder andere optische Komponenten benötigt werden. Die Maschine beinhaltet ein Autofokus-Tool, mit dem der Benutzer den Fokus schnell auf verschiedene Teile des Wafers einstellen kann, sowie ein automatisches Gain-Asset, das das Signal-Rausch-Verhältnis verbessert, um ein höheres Kontrastbild zu liefern. KLA es20xp kann auf verschiedene Scanmodi eingestellt werden. Der Single Shot Modus scannt den gesamten Wafer, während auch Scanbereiche und Scanfelder definiert werden können. Mit Scanbereichen kann ein Benutzer den Scan verfeinern und bestimmte Stellen auf dem Wafer inspizieren, während in Scanfeldern mehrere verschiedene Bereiche des Wafers gleichzeitig inspiziert werden können. Schließlich scannt der Hot-Spot-Modus nur Bereiche mit hoher Fehlerdichte. KLA/TENCOR ES20 XP kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden. Es kann verwendet werden, um Stempelbindungsprobleme zu identifizieren und zu korrigieren, Fehler oder Schäden an Maskenmustern zu erkennen und Oberflächenmorphologien von Wafern auszuwerten. Das Modell kann bei der Erkennung von Hinterschneidungen, kurzen Hosen, Hohlräumen und Kratzern sowie von Trümmern und Störstellen verwendet werden. Es20xp ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die Erkennung kleiner Defekte und Partikel bis in den Nanometermaßstab ermöglicht. Dieses System bietet eine hochauflösende Ansicht der Oberfläche des Wafers und ermöglicht eine schnelle und genaue Fehlererkennung. Es stehen verschiedene Scanmodi zur Verfügung, die eine Optimierung der Fehlererkennung für Bereiche mit hoher Fehlerdichte ermöglichen. KLA ES 20 XP ist ein wesentliches Werkzeug für Halbleitergerätehersteller, das eine schnelle, zuverlässige und genaue Inspektion von Masken und Wafern ermöglicht.