Gebraucht KLA / TENCOR eS30 #9083787 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS30 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die Kunden ein zuverlässiges und zuverlässiges Werkzeug zur Inspektion von Halbleitermasken und Wafern bietet. Dieses System bietet erweiterte Funktionen zur Bildgebung und Fehlererkennung, um jede Art von Oberflächen- oder Musterdefekten in Wafern und Masken schnell zu erkennen und zu analysieren. Mit der integrierten automatisierten Fehlerklassifizierung hilft die KLA eS30, echte Fehler effizient von zufällig auftretenden Merkmalen zu trennen, sodass Anwender leicht erkennen können, ob ihre Produkte von akzeptabler Qualität sind. TENCOR eS30 bietet hochauflösende Bildgebung, die über traditionelle Techniken hinausgeht, mit einer Auflösung von 5 nm, was es ideal für die Inspektion der sehr detaillierten Merkmale von Masken- und Wafermustern macht. Die Maschine bietet auch Geräusch- und Unschärfeeigenschaften, um sicherzustellen, dass die Bilder so scharf und klar wie möglich sind. ES30 kommt mit einer Reihe von 2D-Bildverarbeitungsalgorithmen, die für eine schnelle und genaue Fehlererkennung entwickelt wurden. Diese Algorithmen suchen nach Punkten, Linien, Kanten und anderen charakteristischen Merkmalen der Masken und Wafer. Die erweiterten Fehlermanagementfunktionen, die in KLA/TENCOR integriert sind eS30 ermöglichen es Benutzern, detaillierte Fehlermeldungen herunterzuladen, die verwendet werden können, um Fehlertrends zu überwachen und sicherzustellen, dass sie in einem kontrollierten Zustand bleiben. Dieses Tool bietet auch eine integrierte Datenanalyse und Berichterstattung über das Gesamtfehlerprotokoll. Darüber hinaus verfügt KLA eS30 über eine Reihe automatisierter Funktionen zur Steigerung des Produktionsdurchsatzes. Es bietet in-situ Maskenmessung, schnelle Rüstzeiten, Batch-Verarbeitung und einfache Job-Programmierung für verbesserte Zykluszeiten und Produktivität. Insgesamt ist TENCOR eS30 eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektion, die beispiellose Genauigkeit und Leistung für die Halbleitermasken- und Wafer-Inspektion liefert. Mit seinen fortschrittlichen Bildgebungsfunktionen, Algorithmen zur Erkennung von Funktionen und Fehlermanagement-Tools ist eS30 die ideale Lösung für jeden Kunden, der eine zuverlässige und zuverlässige Masken- und Waferinspektion sucht.