Gebraucht KLA / TENCOR eS30 #9258336 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS30 ist ein spezialisiertes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das im Halbleiterherstellungsprozess eingesetzt wird. Das eS30mask und Wafer-Inspektionssystem wurde entwickelt, um branchenführende Berichtsfunktionen und Ertragskontrolle bereitzustellen. KLA eS30 ist in der Lage, optische und elektrische Messtechnik-Systeme zu kombinieren und so genaue Daten schnell und zuverlässig zu liefern. Dazu gehören fortschrittliche Bildgebungstechnologie, die feinkörnige Geometriedetails erfasst, sowie erweiterte Pattererkennungsfunktionen zur Identifizierung von Mustern oder Fehlerquellen. TENCOR eS30 kann eine Vielzahl von Substraten und Masken aufnehmen, von 12-Zoll-Quadrat-Masken bis zu 25-Zoll-Quadrat-Wafern. Es ist mit automatisierter Ausrichtungstechnologie ausgestattet, die eine genaue Platzierung der Maske oder des Wafers für die Serienfertigung mit höchster Genauigkeit gewährleistet. Zusätzlich zu seinen automatisierten Scan-Funktionen bietet eS30 umfassende Reporting-Funktionen für ultimative Rückverfolgbarkeit. Dazu gehören detaillierte Fehlermeldungen, bei denen erkannte Mängel einer Quelle zugeordnet und bis auf die Höhe des Eigenfehlers gemeldet werden. Diese Rückverfolgbarkeitsdaten werden dann verwendet, um Prozesstrends zu verfolgen, Ertragsmetriken zu messen und com [sind Gießereimetriken gegen planare Daten. Darüber hinaus ermöglicht KLA/TENCOR eS30 Benutzern, bestimmte Fehler oder Muster auszuwählen, um im Modus „Datenverwaltung“ zu beobachten oder zu analysieren. In der Messtechnik können UCK- eS30 beide Arten von Oberflächenstrukturen messen - sei es Flachkorn- oder Overlay-Strukturen. Ergänzt durch erweiterte Mustererkennungsfunktionen wird eine präzise Visualisierung und Analyse von Musterinformationen ermöglicht. Dazu gehört die Erkennung aller Arten von nicht idealen Prozessen wie 3D-Musterung und Ungleichförmigkeit. TENCOR eS30 bietet auch Abbildungs- und Klassifizierungsmöglichkeiten für die Abbildung von peripheren Zonendefekten und Waferlichtungen. Kombiniert bietet eS30 eine umfassende Reihe von Funktionen und Funktionen zur Inspektion und Validierung von Masken- und Waferschichten. Dieses System ist die perfekte Wahl, um die Erkennung und Analyse zu verbessern und einen umfassenden Einblick in Prozesse und Leistung zu erhalten. Dadurch wird sichergestellt, dass Fertigung und Montage reibungslos und effizient mit maximalen Erträgen verlaufen und die Produktqualität und Zuverlässigkeit gewährleistet sind.