Gebraucht KLA / TENCOR eS30 #9280537 zu verkaufen
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ID: 9280537
Weinlese: 2004
Defect inspection system
Stage: X, Y, Z
ESC Interface
Piezo actuators
Faraday cup
Description / Part number
RENISHAW / HEIDENHAIN / P/N: RGH25U15M01C
Precision flatness 6061 aluminum base X, Y Mounting plate / P/N 730-21805-000 Rev BA
X-Axis / P/N: 740-21057-000 Rev EA
Y-Axis / P/N: 585-001-950 Rev D
Y Driver motors / Scales / X, Y Thermistors / Flags interface board 830-21063-000 Rev CB / P/N: 820-21063-000 Rev CB
X Driver interface board (X Flags J16, X Motor J17, Y Motor J3) 831-21062-000 Rev CB / P/N: 820-21062-000 Rev DB
High and low voltage wiring cables included
2004 vintage.
KLA/TENCOR eS30 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die in Produktions- und Ingenieur-/Forschungsumgebungen eingesetzt wird. Es ist in der Lage, gleichzeitig hochpräzise Messungen kritischer Schichtparameter wie Linienbreiten und Kantenplatzierung vorzunehmen. Das System basiert auf der KLA-proprietären OpticVision-Technologie mit einem 3-Segment-BDI-Laser, einer Laser-Scankopf-Baugruppe mit FocusLens und einer Ultra-High-Speed-Digitalkamera. Die Kombination dieser Komponenten bietet die beispiellose Geschwindigkeit, Flexibilität und Genauigkeit, die für moderne Produktions- und Forschungsanwendungen erforderlich ist. Der 3-Segment-BDI-Laser nutzt drei Laserstrahlen, die einen höheren Durchsatz und eine bessere Leistung als herkömmliche Einzellasersysteme ermöglichen. Die Laser sind individuell abstimmbar und ermöglichen eine Vielzahl von Messgeschwindigkeiten, was dem Gerät außergewöhnliche Fähigkeiten als Produktionswerkzeug verleiht. Die Laser-Scankopf-Baugruppe verwendet ein großblendiges FocusLens, um die Laserstrahlen auf sehr kleine Merkmale und Merkmale zu fokussieren, die mit sehr geringen Oberflächenunregelmäßigkeiten überprüft werden. Dies bietet eine überlegene Abdeckung der Waferoberfläche, einschließlich Kanten und Ecken, die mit einem einzigen Laser schwer zu überprüfen sein kann. KLA eS30 verfügt auch über eine Ultra-High-Speed-Digitalkamera, die fluoreszierende Bilder mit sehr hohen Geschwindigkeiten aufnehmen kann, so dass sie perfekt für optische Lithographieanwendungen geeignet ist. Es verfügt auch über eine integrierte, hochpräzise Stufe, die einen Wafer oder ein Retikel schnell von Anfang bis Ende in einem einzigen Scan durchqueren kann. Darüber hinaus verfügt TENCOR eS30 auch über eine automatische Offline-Messfunktion, die zur schnellen Retikel- oder Waferbewertung sowie zur automatisierten Datenanalyse und -aufzeichnung verwendet werden kann. Die Maschine wird durch eine leistungsstarke Software-Suite mit Mess-, Analyse- und Berichtsfunktionen unterstützt, mit der Benutzer ihre Daten schnell auswerten, Berichte erstellen und Vergleichsmasken erstellen können, die von eS30 gesammelte Daten verwenden. Insgesamt bietet KLA/TENCOR eS30 unübertroffene Leistung und Genauigkeit und ist damit die ideale Lösung für eine Vielzahl von Anforderungen an die Wafer- und Maskeninspektion. Seine Kombination von Funktionen, einschließlich der Laser-Scan-Kopf-Montage, Ultra-High-Speed-Digitalkamera und automatisierte Offline-Messfunktion, machen es die perfekte Wahl für jede Produktions- und/oder Engineering/Forschungsumgebung.
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