Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #191476 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine vollautomatische, hochauflösende Inspektionsanlage, die speziell für fortschrittliche Messtechnik und Prozesskontrollanwendungen im Masken- und Waferprozess entwickelt wurde. Das System führt eine Reihe kritischer Funktionen aus, darunter die Überprüfung und Klassifizierung von Waferdefekten, die Maskenmusteruntersuchung und die Analyse von Waferdaten. Analysten erhalten detaillierte Informationen zu Prozessstabilität, Prozesskonsistenz, Defekteigenschaften und Fehlerklassifizierung. KLA eS31 verwendet ein innovatives Design, um hochauflösende Bilder und Datenanalysen zu erzielen - es kombiniert mehrere bildgebende und spektroskopische Techniken, um die Geheimnisse der Wafer- und Maskenoberflächen zu entsperren. Die integrierte Mikroskopie-Maschine ist in der Lage, nanoskalige Merkmale durch ihre erweiterten Beleuchtungs-, Bildsammel- und Analysefunktionen zu erfassen und zu messen, während das spektroskopische Werkzeug spektrale Daten vom Rohmaterial bis zum fertigen Produkt quantifizieren kann. Das Gerät ist mit einem Hochgeschwindigkeits-Autoloader ausgestattet, mit dem der Benutzer Wafer und Masken schnell und sicher laden und entladen kann, ohne dass manuelle Eingriffe erforderlich sind. TENCOR eS31 verfügt über mehrere Inspektionsmodi, um verschiedene Inspektionsanforderungen zu erfüllen, einschließlich fehlerspezifischer, bereichsspezifischer und vollflächiger Scans. Das Modell verfügt auch über erweiterte Mustererkennungsfunktionen, die es ermöglichen, subtile Musterfehler sowie falsche Erkennung zu erkennen. ES31 bietet eine automatisierte Datenanalyse und Berichtsfähigkeit. Die Geräte können klare, umsetzbare Berichte erstellen, die die Stabilität und Konsistenz des Wafer- und Maskenprozesses definieren sowie die Eigenschaften von Defekten und ihre möglichen Ursachen quantifizieren. Das System kann auch verwendet werden, um Produktqualitätsberichte zu erstellen, um die Leistung der Maschine und des Prozesses zu dokumentieren. KLA/TENCOR eS31 ist ein ideales Werkzeug zur Überwachung von Wafer- und Maskenprozessen, um sicherzustellen, dass sie fehlerfrei und konsistent bleiben. Die Hochgeschwindigkeits-, Hochauflösungs-Optik und die Datenanalyse machen es zu einem unschätzbaren Kapital für die automatisierte Erkennung und Klassifizierung von Waferdefekten und Maskenmustern. Die einfache Bedienung der Maschine, die schnelle Ladegeschwindigkeit und die leistungsstarke Datenanalyse und Berichtsfunktionen machen die UCK eS31 zu einem wesentlichen Bestandteil einer kompletten Lösung zur Fehlererkennung und Prozesskontrolle.