Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #293606035 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es bietet eine Fehlerüberprüfung auf Waferebene und Überwachung der Geräteeigenschaften über den gesamten Wafer. Die KLA- eS31 verfügt über 2D- und 3D-Bildgebungsfunktionen zur Erkennung von Mikrostrukturen, lithographischen Fehlern, Prozessschritten, Defekten und Partikelverunreinigungen auf der Oberfläche des Wafers. TENCOR eS31 wurde entwickelt, um eine schnelle und genaue Fehlererkennung mit einem hohen Durchsatz von bis zu 600 Wafern pro Stunde durchzuführen. Es kombiniert die KLA TrueFourierTM 3D-Bildgebungstechnologie mit einer optimierten Source-Target-Konfiguration, um Gerätedefekte zu erfassen, die sich über mehrere Masken- und Waferebenen erstrecken können. Auf diese Weise kann das System Fehler genau erkennen, auch wenn sie auf verschiedenen Schichten auftreten. Die hohe Empfindlichkeit des Geräts ermöglicht die Erkennung von Teilsegment- und Segmentfehlern sowie die Kanten-zu-Kanten-Fehlersuche. Die von der Maschine verwendeten Algorithmen ermöglichen die Erkennung von Masken- und Waferdefekten, und die gesammelten Daten können verwendet werden, um sowohl Vor- als auch Nachmuster-Fehlerfeedback für eine verbesserte Prozessleistung zu liefern. Darüber hinaus verfügt das Tool über eine einzigartige Wafer-Mapping-Technologie, mit der einzelne Wafer über den gesamten Wafer identifiziert und analysiert werden können. Dies ermöglicht eine verbesserte Fehlerabdeckung und Korrelation zwischen den verschiedenen Wafern, so dass Anwender Problembereiche leichter erkennen können. ES31 verfügt zudem über ein automatisiertes Wafer-Handling-Asset, mit dem bis zu vier Wafer gleichzeitig bearbeitet werden können. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine In-situ-Messplattform, die Echtzeitdaten und Analysen bereitstellt, um eine zeitnahe Prozessoptimierung und Fehlerbehebung zu ermöglichen. KLA/TENCOR eS31 ist eine One-Stop-Lösung für die Masken- und Waferinspektion und bietet eine schnelle, genaue und umfassende Fehlererkennung. Seine automatisierten Wafer-Handhabungsfunktionen ermöglichen es ihm, große Chargen von Wafern schnell zu überprüfen und seine umfassenden Datenanalyse-Funktionen ermöglichen eine detaillierte Fehleranalyse und -berichterstattung. Durch die Integration einer Reihe fortschrittlicher Bildgebungs- und Datenerfassungsfunktionen bietet UCK eS31 eine zuverlässige und genaue Fehlererkennung, effiziente Ausrüstungsoperationen sowie eine verbesserte Prozess- und Produktleistung.