Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #293609359 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine hochentwickelte Ausrüstung für Masken- und Wafer-Inspektion, die 5nm oder bessere Auflösung bietet. Es bietet berührungslose, zerstörungsfreie Inspektion für lichtempfindliche Merkmale auf Halbleiterscheiben zur Ausbeute Verbesserung und Produktionskontrolle. Das System arbeitet mit einer einzigartigen Technik, die als „Streuung“ bekannt ist. Mit dieser Technik wird ein einfallendes Licht von der Oberfläche einer Probe gestreut und anschließend das detektierte rückgestreute Licht analysiert. KLA eS31 nutzt Laser Scatterometry Profile (LSP), um Topographiemessungen über eine Vielzahl von Oberflächen bereitzustellen. Die Einheit ist in der Lage, selbst die kleinsten Merkmale wie die Rauhigkeit der Kanten, Kontaktlöcher und den Eckenradius zu erkennen. Seine einzigartige Technologie ermöglicht auch die Bestimmung von 3D-Wafer-Level-Mapping und Foliendickenmessung. TENCOR eS31 Maschine ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien wie Photolack, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und andere Materialien zu analysieren, die in der Mikroelektronik-Industrie häufig verwendet werden. Das Werkzeug ist mit einer ultraschnellen Erkennungszeit ausgelegt, was es ideal für Anwendungen macht, bei denen eine schnelle Wende erforderlich ist. Darüber hinaus wird das Asset automatisiert, damit Benutzer Daten schnell einrichten und erfassen können. Die Software der Maschine bietet einen integrierten Scan-Modus, mit dem Benutzer mehrere Wafer unterschiedlicher Größe gleichzeitig mit einem automatisierten Algorithmus zur Erkennung von Funktionen analysieren können, der die Größe von Funktionen für zukünftige Referenzen speichert und verfolgt. Darüber hinaus umfasst das Modell eine Reihe von Prozesssteuerungsfunktionen, mit denen Benutzer Messeinstellungen anpassen, statistische Daten anzeigen und analysieren und vieles mehr. ES31 bietet eine breite Palette an Zubehör und Systemen, wie ein Lichtquellenmodul, eine Metrologiestufe, ein Wärmebildmodul, ein AuroClean-Modul, eine NuFlats-Ausrüstung, ein SQA-Modul sowie eine Vielzahl von Medien- und Filtertypen. Mit diesem Zubehör und diesen Systemen können KLA/TENCOR- eS31 an die spezifischen Kundenanforderungen angepasst werden, um sicherzustellen, dass die Anwender immer die effizientesten und zuverlässigsten Ergebnisse erzielen. Insgesamt ist KLA eS31 ein extrem fortschrittliches System, das speziell entwickelt wurde, um die Inspektion von Masken und Wafern zu erleichtern und zu verbessern. Es bietet berührungslose, zerstörungsfreie Inspektion mit 5nm oder besserer Auflösung und ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien zu scannen und zu analysieren. Mit seiner automatisierten Einheit, dem integrierten Scanmodus und den anpassbaren Messeinstellungen ist die TENCOR eS31 Maschine eine ideale Wahl für Halbleiterhersteller.