Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #293619038 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Das System verwendet fortschrittliche 2D- und 3D-Inspektionstechnologien, um Fehler in fortgeschrittenen Halbleiterprodukten genau zu erkennen. Das Gerät verwendet automatisierte Nähte, um eine exakte Karte der Matrizenoberfläche zu erstellen, und verwendet fortschrittliche Algorithmen, um Fehler mit hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu erkennen. Die Maschine hat eine hohe Durchsatz-Inspektionsrate, mit der Fähigkeit, bis zu 1.500 Wafer pro Stunde zu überprüfen. KLA eS31 Tool besteht aus verschiedenen Komponenten, darunter fortschrittliche Optik, Bewegungssteuerungssysteme und Bildverarbeitungsalgorithmen. Die Optik des Objektivs umfasst eine motorisierte Objektivlinse, telezentrische Beleuchtung, optische Filter und eine polarisierte Lichtquelle. Die Optik dient zur Erzeugung von Bildern von höherer Qualität und Genauigkeit als bei herkömmlicher Optik. Das Bewegungssteuerungsmodell enthält eine Hexapod-Bewegungsstufe, die sich in sechs verschiedenen Achsen bewegen kann, so dass das Gerät die Formoberfläche genau scannen kann. Die Bildverarbeitungsalgorithmen des Systems verwenden fortgeschrittene maschinelle Lerntechniken, um Fehler auf der Matrizenoberfläche zu erkennen und zu klassifizieren. Die Algorithmen sind in der Lage, eine Vielzahl von Defekten zu erkennen, einschließlich Hohlräume, Partikel, Brüche und Topographiefehler. Das Gerät ist auch in der Lage, die Position und Größe der Fehler für die genaueste Fehlerklassifizierung zu erkennen. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, Bilder mit Klassifizierungsanmerkungen zur weiteren Analyse und Überprüfung auszugeben. TENCOR eS31 ist ein fortschrittliches und zuverlässiges Werkzeug zur Durchführung einer genauen und zuverlässigen Masken- und Waferinspektion. Es nutzt fortschrittliche Optik, Bewegungssteuerungssysteme und Bildverarbeitungsalgorithmen, um eine Vielzahl von Defekten auf Gesenkoberflächen mit hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu erkennen. Die Anlage hat einen hohen Durchsatz und eignet sich für den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiteranwendungen.