Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #9203779 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die zur Verbesserung der Produktionserträge entwickelt wurde. Es gewährleistet die Herstellung von integrierten Schaltungen und optoelektronischen Bauelementen in besserer Qualität für die Halbleiterindustrie. Es bietet hochgenaue und zuverlässige Bildgebungs- und Messfähigkeit, die eine schnelle Qualitätskontrolle und Messung kritischer Produktionsparameter ermöglicht. KLA eS31 integriert KLA CCD (Charge Coupled Device) Technologie mit fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmen in einem einzigen System, das außergewöhnlich präzise ist. Das Gerät übernimmt eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben einschließlich Wafer und Retikel (Maske) Messung. Es enthält eine kundenspezifische Beleuchtungsmaschine, komplexe bildgebende Algorithmen und spezielle Datenerfassungstechniken, um extrem kleine Merkmale und Variationen zu messen. Das einzigartige Auto-Focus-Feature von TENCOR eS31 bietet einen Vorteil gegenüber herkömmlichen automatisierten optischen Inspektionssystemen, indem es einen verbesserten Fokus bietet. Es ermöglicht auch die automatische und optimale Datenerfassung verschiedener Oberflächeneigenschaften wie Partikelgröße, Partikeltyp, Topographie und Montageeigenschaften. ES31 bietet eine Vielzahl von Scan- und Task-Optionen, so dass das Tool auf individuelle Kundenanforderungen ausgelegt und konfiguriert werden kann. Die Anlage kann mit einer Vielzahl von Zubehörteilen konfiguriert werden, um eine Vielzahl von Anforderungen zu erfüllen, einschließlich automatisierter elektrischer Testsysteme, automatisierter optischer Sondierungs- und Ausrichtungssysteme und eigenständiger optischer Systeme. KLA/TENCOR eS31 bietet ein breites und sich ständig änderndes Werkzeugspektrum. Darüber hinaus integriert sich das Modell nahtlos in die bestehenden Produktionssysteme des Kunden und minimiert zusätzliche Hardwareanforderungen. Dies trägt dazu bei, eine verbesserte Skalierbarkeit und höhere Produktionsflexibilität zu gewährleisten. Mit der flexiblen Software des Geräts können mehrere Datenpunkte gesammelt werden. Die Software kann auf die Bedürfnisse des Kunden zugeschnitten werden und ermöglicht die Prüfung und Analyse verschiedener Mängel, einschließlich Retikel, Maske und Wafer-Eigenschaften. Die Software kann auch verwendet werden, um Berichte zu erstellen, die eine detaillierte Analyse der Qualität und Leistungsfähigkeit der Komponenten des Systems bieten. Abschließend ist KLA eS31 eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die zur Verbesserung der Produktionserträge entwickelt wurde. Es ist unglaublich präzise, verfügt über einen Autofokus mit einem verbesserten Fokus und verfügt über eine flexible Software mit mehreren Datenpunktauswahlen und Berichtsoptionen. Darüber hinaus integriert es sich nahtlos in bestehende Produktionssysteme, was eine verbesserte Skalierbarkeit und höhere Produktionsflexibilität gewährleistet.