Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #9269700 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage der nächsten Generation, die für den Einsatz in hochvolumigen Halbleiterproduktionsprozessen entwickelt wurde. Es verfügt über fortschrittliche Bildgebungstechnologien und Software, um eine schnelle, genaue und zuverlässige Inspektion von Masken und Wafern zu ermöglichen. Das KLA eS31 System basiert auf einem automatisierten Rasterelektronenmikroskop (SEM) mit integriertem optischen Mikroskop zur optischen Inspektion. Es ermöglicht einen höheren Durchsatz und eine bessere Bildqualität als frühere Generationen. Zusätzlich liefert es einen schnellen Durchsatz mit einer Sollgeschwindigkeit von 0,75 Proben/min. Die Bildsensoren der TENCOR eS31 Einheit verwenden patentierte „e-pulse imaging“ Technologie, um bis zu 8x höhere Signalintensität als herkömmliche SEM-Systeme zu ernten. Dies ermöglicht eine extrem hohe Genauigkeitsanalyse von Mustern auf Masken und Wafern bei Nanometerauflösung. Es ist entworfen, um sowohl offene als auch Kurzschlüsse zu erkennen, Kontaktfehler und andere Aberrationen in der Struktur zu identifizieren. ES31 Maschine verfügt auch über leistungsfähige Software, die in der Lage ist, die in den Halbleiterproduktionsprozessen verwendeten Muster zu erkennen. Zum Beispiel kann es lange/kurze Linien sowohl horizontal als auch vertikal erkennen und verfügt auch über Kantenerkennungs- und Fehlererkennungsalgorithmen, um Fehler mit hoher Genauigkeit zu identifizieren. Dank seiner fortschrittlichen Algorithmen kann KLA/TENCOR eS31 Werkzeug automatisch Muster erkennen, wodurch der Eingriff des Bedieners reduziert wird. Das Asset bietet auch eine Reihe spezialisierter Schnittstellen für die Verbindung zu Testinstrumenten wie AFM und RHEED. Dies ermöglicht eine detaillierte Analyse von Ebenen und Ebenenkorrelation, so dass Benutzer eine beispiellose Genauigkeit erreichen können. Darüber hinaus ist die mehrsprachige Unterstützung (Chinesisch, Englisch, Koreanisch, Japanisch, Deutsch und Französisch) für eine Vielzahl von Kunden zugänglich. KLA eS31 Modell ist die perfekte Wahl für eine Vielzahl von Halbleiterprozessen. Es bietet eine kostengünstige Option, um höchste Präzisionsstandards bei der Masken- und Waferinspektion zu erreichen. Hochgenaue und zuverlässige TENCOR eS31 Ausrüstung ist sicher, Halbleiterproduktionsprozesse zu revolutionieren, was einen schnelleren Durchsatz und eine bessere Bildqualität ermöglicht.