Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #9298886 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die Kundenanforderungen ermöglicht, die hohe Genauigkeit und Durchsatz erfordern. Es ist in der Lage, Nanometer-Genauigkeit und eine beispiellose Inspektionsgeschwindigkeit für eine breite Palette von Halbleiterbauelementen bereitzustellen. KLA eS31 verfügt über ein optimiertes optisches Design mit optischer KLA SLF-Säule mit Lightning-Modul, einem standardisierten statistischen HS-Hintergrund und GS1-Scan-Fähigkeit. Das optische Design von SLF bietet hervorragende Gleichmäßigkeit und Bildqualität über das gesamte Sichtfeld. Das patentierte Luftfederungssystem ermöglicht über 1M Hz Hochgeschwindigkeits-Scanning mit Nanometer-Auflösung. Dies ermöglicht eine schnelle und präzise Erkennung von Fehlern, die sonst nicht zu sehen gewesen wären. Das Lightning-Modul bietet 4 Kombinationen von Infrarot-, Ultraviolett- und Wafer-optischen Kontrasten für die genaueste Inspektion jeder Funktion auf einem Gerät. Der statistische HS-Hintergrund liefert einen Vergleich zwischen den Live-Signalen einer Probe und einer vertrauenswürdigen Referenzoberfläche und gewährleistet eine robuste Erkennung von Verunreinigungen und Defekten. Die GS1-Scan-Fähigkeit ermöglicht die Inspektion von Halbleiterbauelement-Wafern von 12 Zoll bis 200 Meilen dick. Der Scan kann bis zu 40.000mm2 in nur 4 Sekunden abdecken. Das Gerät verfügt zudem über einen hohen Automatisierungsgrad, um den Handhabungsbedarf zu minimieren. Die Software für TENCOR eS31 verfügt über eine Vielzahl von Funktionen wie: automatische Korrelation, Cluster-Algorithmus, flache Ansicht und automatische Ansicht. Der Auto-Korrelate- und Cluster-Algorithmus ermöglicht den gleichzeitigen Vergleich von geprüften Daten aus mehreren Datensätzen sowohl auf der Vorder- als auch auf der Rückseite von Wafern. Flache Ansicht hilft, Detektorstärke und Interpretation des Signals vs. Hintergrund zu bestimmen. Die automatische Ansicht ermöglicht die Generierung einer einzelnen Ansicht mit maskierten, entpackten, gescannten und zusammenfassenden Informationen. Zusammenfassend ist eS31 von TENCOR eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsmaschine, die Genauigkeit und Durchsatz auf Nanometerniveau bietet. Mit seinem fortschrittlichen optischen Design, dem patentierten Luftfederungswerkzeug und der benutzerfreundlichen Software ist KLA/TENCOR eS31 die ideale Lösung für jeden Bedarf an Halbleiterherstellung.