Gebraucht KLA / TENCOR eS31 #9300221 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS31 ist eine leistungsstarke, automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die zur Erkennung von kleinsten Defekten in elektronischen Geräten wie integrierten Halbleiterschaltungen (ICs) entwickelt wurde. KLA eS31 verwendet digitale Bildgebungstechnologie, um Bilder von Masken- und Waferoberflächen zu erfassen und zu analysieren, um selbst kleinste Fehler zu erkennen. Das System kann schiefe Linien, Partikelverunreinigungen oder fehlende Muster erkennen, die in verschiedenen Prozessschritten verworfen wurden. Mithilfe fortschrittlicher automatisierter Bildverarbeitungsalgorithmen werden Bilder automatisch ohne menschliches Eingreifen analysiert. Die Analyse umfasst die Kategorisierung von Testmustern, die Masken-/Waferausrichtung und die Überprüfung der kritischen Merkmale aller Maskenmuster. TENCOR eS31 erkennt Gewindefehler, Ungleichmäßigkeit, Kohärenz und Inversionsfehler sowie Partikelverunreinigungen. Ein einzigartiges Merkmal von eS31 ist seine Fähigkeit, auf ULV-Defekte zu überprüfen, für die andere Systeme keine vollständige Erkennung erzielen können. KLA/TENCOR eS31 ist eine voll integrierte Hochgeschwindigkeitseinheit, die über einen Monitor und eine Maus bedient wird. Es bietet einen extrem hohen Durchsatz und arbeitet mit Geschwindigkeiten von bis zu 300 Wafern pro Stunde. Die Maschine verfügt außerdem über eine intuitive Benutzeroberfläche und eine erweiterte menügesteuerte Bedienung für Benutzerfreundlichkeit. KLA eS31 ist in der Lage, eine breite Palette von Mustern, Wafern und Masken zu testen. Das Tool wird mit modernster Inspektionstechnologie betrieben, die eine CCD-Kamera, LED-Beleuchtung, einen Kamerakontroller, einen Konsolencontroller, einen Robo-sys-Controller und eine z-Stufe umfasst, um das Inspektionsgerät über den Wafer zu bewegen. Es bietet auch qualitativ hochwertige Nachbearbeitungsfunktionen, um Fehlergröße und -typen genau zu überprüfen. Das Modell ist aufrüstbar, um neuen Anforderungen und Technologien gerecht zu werden. Insgesamt ist TENCOR eS31 ideal für die schnelle Masken- und Waferinspektion. Es verbindet Hochleistungspräzisionsbildaufbereitung mit fortgeschrittenen Defektentdeckungsfähigkeiten sicherzustellen, dass Produkte zu den höchsten Standards verfertigt werden. Die Ausrüstung ist einfach einzurichten und zu bedienen und kann eine breite Palette von Masken und Wafern inspizieren.