Gebraucht KLA / TENCOR eS32 #9139567 zu verkaufen
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ID: 9139567
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Electron-beam defect inspection (EBI) tool, 12"
2007 vintage.
KLA/TENCOR eS32 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für höchste Präzision und Genauigkeit bei der Analyse von Dielektrika, Dünnschichten und anderen Strukturen im Nanometermaßstab entwickelt wurde. Das System nutzt modernste optische und bildgebende Technologien, um Fehler mit einer Auflösung von bis zu 0,1um zu erkennen und zu analysieren. Dieses hochauflösende Bild ermöglicht es Benutzern, kleine Partikel, Partikel und andere Verunreinigungen zu identifizieren, die zu einer Fehlfunktion des Geräts führen können. Das Gerät ist mit 2 Objektiven mit jeweils einer anderen numerischen Apertur ausgestattet, die es ermöglichen, sowohl die Draufsicht als auch die Querschnittsansichten des Wafers zu erfassen. Darüber hinaus umfasst die UCK- eS32 die Bildgebungs- und Wellenlängenfiltertechnologie für Nahinfrarot (NIR), um Fehler zu identifizieren und zu isolieren, die für die herkömmliche optische Mikroskopie unsichtbar sind. Neben seinen leistungsstarken Bildgebungsfunktionen bietet TENCOR ES 32 Anwendern auch eine Reihe von Softwarefunktionen wie automatische Fehleranalyse, Mustererkennung und farbcodierte Datenetikettierung usw., um Inspektionsprozesse weiter zu erleichtern. Die Maschine ist auch mit einer breiten Palette von unterstützten Industriestandards kompatibel, einschließlich SEMI E10 und MIL-STD-1275. ES 32 ist so konzipiert, dass es den strengsten Umgebungen standhält. Es ist mit einem leichten und robusten Aluminiumlegierungsgehäuse gebaut, das Stoß- und Temperaturschwingungen standhalten kann. Das Tool verfügt auch über eine benutzerdefinierte Bewegungsverzögerung, um sicherzustellen, dass das Asset während eines längeren Beobachtungs- oder Analysezeitraums an derselben Position bleibt. Abschließend ist eS32 eines der leistungsfähigsten und zuverlässigsten Mikroskopierwerkzeuge und bildgebenden Systeme auf dem Markt. Hochauflösende Bildgebung und leistungsstarke Softwarefunktionen machen es zum perfekten Werkzeug zur Identifizierung von nanoskaligen Partikeln, Defekten und anderen Problemen im Zusammenhang mit der Verarbeitung oder der Betriebsleistung.
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