Gebraucht KLA / TENCOR eS32 #9205645 zu verkaufen

KLA / TENCOR eS32
ID: 9205645
Wafergröße: 12"
Wafer inspection system, 12" Non functional.
KLA/TENCOR eS32 ist eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine Echtzeit-Fehlererkennung für die anspruchsvollsten Halbleiterherstellungsprozesse ermöglicht. Es bietet bahnbrechende Leistung und kann bis zu 32 komplexe Masken oder Wafer gleichzeitig inspizieren. Das System hat eine variable Auflösung von bis zu 0,26 Mikron, eine vierfache Verbesserung gegenüber der vorherigen Einheit. Dies ermöglicht es, suboptische Fehlergrößen zu erkennen, was für die Gewährleistung der Ausbeute bei der modernen 16 und 20 Nanometer-Halbleiterherstellung unerlässlich ist. KLA eS32 verwendet ein Dynamic Focus Module (DFM), das den Fokus für jede Inspektionsschicht automatisch anpasst. Dies bietet erstklassige Bildklarheit und beseitigt Probleme durch ungenaue Stufenkalibrierung. Die Maschine enthält auch einen proprietären Q-Detect-Algorithmus, mit dem sie komplexe Fehler erkennen kann, die sonst unentdeckt bleiben würden. Dieser ausgeklügelte Algorithmus vereint drei Erkennungsideologien in seiner Logik, um alle möglichen Fehlertypen abzudecken. Darüber hinaus verfügt TENCOR ES 32 über einzigartige Bildaufnahmefunktionen, die den gesamten Wafer in einem Snap-Shot erfassen können. Dies erhöht den Durchsatz und reduziert die Gefahr von Fehlerflucht. Darüber hinaus ist das Tool mit einem High-Dynamic Range (HDR) Bildprozessor ausgestattet, der leicht zwischen mikroskopischen Defekten und Merkmalsignaturen für eine verbesserte Fehlerklassifizierung unterscheiden kann. KLA/TENCOR ES 32 nutzt auch die KLA iQ-Technologie, um die Inspektionsleistung zu optimieren. Diese Technologie verwendet Machine-Learning-Algorithmen, um Inspektionsvorgänge automatisch anzupassen, um schwierige Fehler zu erkennen. Abschließend ist KLA ES 32 die perfekte Lösung für die fortschrittliche Masken- und Waferinspektion. Es bietet eine hervorragende Leistung und bietet eine breite Palette von Funktionen, die es ermöglichen, auch kleinste Fehler zu erkennen. Es ist ein ideales Werkzeug für die Halbleiterindustrie und sorgt für optimale Erträge und bestmögliche Produkte.
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