Gebraucht KLA / TENCOR eS32 #9255738 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9255738
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Defect inspection system, 12"
With hybrid port control
Load ports, 8"-12"
Wafer handler:
SMIF, 8"
FOUP, 12"
With insert, 8"
Open cassette, 8"-12"
Standard pixel size:
0.025, 0.035, 0.05, 0.07, 0.10, 0.15, 0.20, and 0.30 pm
Inspection modes:
Array mode (Cell-to-cell)
Random mode (Die-to-die)
Master reference inspection (Die-to-any die)
User Interface
Inspection station
Dual EFEM
Power line conditioner
EBARA ESR80WN Dry pump
Electrical distribution box
2007 vintage.
KLA/TENCOR eS32 ist eine fortschrittliche, kostengünstige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die Partikel- und Defektinspektionen an einer Vielzahl von Masken und Wafern in der Produktionslinie erkennen kann. Das System nutzt hochauflösende optische Bildgebung, um knackige Bilder von nano- und mikrogroßen Komponenten zu erzeugen, die in der Waferproduktion verwendet werden. Seine einzigartige Seitenwand-Bildgebungsfähigkeit verbessert auch die Genauigkeit und Geschwindigkeit der Inspektionsergebnisse, wie Winkelfehlererkennung. Die patentierten Dark Field Bright Field und OmniBeamTM Techniken erweitern zusätzlich die Spezifikationen von KLA eS32, um Partikel auf bis zu 0,2 µm zu erkennen. Diese Einheit hat die Fähigkeit, Oberflächenteilchen auf Wafern zu detektieren, einschließlich Resist-Rückstand, Metallisierung, Trübung, E-Strahl widerstehen Kratzer und andere. Seine spezielle Dark Field Bright Field Bildgebung kombiniert winkelabhängige und winkelunabhängige Inspektionen, um im Vergleich zu herkömmlichen Dunkelfeldinspektionen präzisere Ergebnisse zu erzielen. Dadurch kann die Maschine Drahtbrüche oder andere Winkelfehler erkennen, die sonst unsichtbar wären. Die patentierte OmniBeamTM und Oblique Angle Light Technik erhöht die Lichtintensität, was die Inspektionsergebnisse weiter verbessert. Dank seiner benutzerfreundlichen Oberfläche und intuitiver Software ist das Tool sehr einfach einzurichten und zu bedienen. Die Software nutzt vordefinierte Workflows und Parameter zur automatischen Erkennung, Analyse und Kategorisierung von Fehlern sowie zur weiteren Analyse und zum Vergleich. Die Anlage hat die Fähigkeit, eine Vielzahl von Inspektionsergebnissen zu speichern und zu vergleichen, so dass eine schnelle und einfache Analyse der kompletten Produktionslinie ohne Aufwand möglich ist. Mit seiner Fähigkeit, eine globale Suche nach Defekten innerhalb von Nanosekunden durchzuführen, ist das Masken- und Waferinspektionsmodell TENCOR ES 32 eine schnelle und zuverlässige Lösung, um alle kleinsten Defekte zu fangen. Seine Automatisierungsfunktionen ermöglichen schnelle und genaue Inspektionen, was zu Kosteneinsparungen und effizienten Produktionszyklen führt. Darüber hinaus bieten seine benutzerfreundliche Oberfläche und die intuitive Softwareschnittstelle eine einfache Einrichtung und Bedienung, wodurch die Ausrüstung ideal für schnelle, präzise und Kosteneinsparungen in der Produktionslinie ist.
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