Gebraucht KLA / TENCOR eS32 #9308154 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS32 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Das System verfügt über einen hohen Durchsatz, 6 Sigma Ausbeute, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit. Es bietet eine automatisierte optische Inspektion von Photomasken und Wafern mit hoher Auflösung und großem Sichtfeld. Es hilft, die Prozesskontrolle zu verbessern und gleichzeitig eine hohe Genauigkeit zu gewährleisten. KLA eS32 Unit enthält eine Vielzahl von Inspektionstechnologien und Software, einschließlich fortschrittlicher Optik, Reflexionsbildgebung, Spektroskopie, Beugung, Röntgenbildgebung und Messtechnik. Die Maschine ist in der Lage, Muster im Bereich von 0,2-500 μ m mit einer minimalen Auflösung von 0,1 μ m zu überprüfen, was eine hochauflösende Abbildung kleiner und komplexer Strukturen ermöglicht. Das Werkzeug ist auch mit ultrapräziser Bewegungsmechanik ausgestattet, die es ermöglicht, schnell und präzise Bilder auf einer Vielzahl von Masken und Wafern. Das Asset verfügt auch über spezialisierte Software für Photomaske- und Wafer-Mustererkennung. Diese Software wurde entwickelt, um Fehler wie fehlende Partikel, falsche Ablagerungen und unvollkommene Drucke zu erkennen. Das Modell ist in der Lage, Muster automatisch von verschiedenen Maskenschichten zu unterscheiden, wodurch dünne Merkmale mit hoher Genauigkeit erkannt werden können. Darüber hinaus ist TENCOR ES 32 in der Lage, Fehler in 3D zu visualisieren, so dass eine detaillierte Inspektion und Diagnose von Photomasken und Wafern möglich ist. Dieses System ist auch mit einer Reihe weiterer erweiterter Funktionen ausgestattet, wie automatische Fokuspunkterkennung, kontrastarme Atomerkennung, Überwachung von Pitch Drift und Autofokus Stack Inspektion. ES 32 Einheit ist entworfen, um hohe Qualitätsanforderungen zu erfüllen und liefert zuverlässige Ergebnisse. Es ist ideal für die fortschrittliche Halbleiterherstellung, wo hohe Erträge und niedrige Kosten erforderlich sind. Die Maschine ist außerdem einfach zu bedienen, mit einer grafischen Benutzeroberfläche, webbasierter Fernunterstützung und einer Reihe fortschrittlicher Programmier- und Analysetools. Alles in allem ist KLA ES 32 Mask and Wafer Inspection Tool die perfekte Kombination aus fortschrittlichen Inspektionstechnologien und benutzerfreundlicher Oberfläche und bietet eine ideale Lösung für die fortschrittliche Halbleiterherstellung.