Gebraucht KLA / TENCOR eS32 #9315826 zu verkaufen

KLA / TENCOR eS32
ID: 9315826
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
E-Beam inspection system, 12" 2007 vintage.
KLA/TENCOR eS32 ist eine hochwertige, präzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die auf die Bedürfnisse der Halbleiterhersteller zugeschnitten ist. Es ermöglicht es Benutzern, Bilder von Masken und Wafern genau und schnell auf Defekte und Kontaminationen zu scannen und zu überprüfen. Die KLA eS32 nutzt fortschrittliche zweidimensionale optische Inspektions- und Bildverarbeitungstechnologien, um Defekte und Verunreinigungen, so klein wie 1 μ m, bei Scan-and-Inspect und Die-Matrix-Map-Anwendungen automatisch zu erkennen. Durch die Erfassung hochauflösender Bilder von Mustern und Merkmalen kann TENCOR ES 32 Muster verschiedener Größen und Formen, einschließlich Aluminiumlinien und Polysiliziummerkmale, sowie Verunreinigungen wie Kobalt, Silber oder andere Materialien genau und genau erfassen. TENCOR eS32 System wurde entwickelt, um die strengsten Anforderungen an Genauigkeit, Durchsatz und Wiederholbarkeit zu erfüllen. Es ist eine komplette Inspektionseinheit, die Optionen wie Hochgeschwindigkeits-Wafer-Inspektion, Dual-Mikroskopie-Bildgebung und messtechnische Messtechnik bietet. Darüber hinaus bietet die Maschine eine automatische Fehlerklassifizierung und kann problemlos in andere Werkzeuge und Hardware integriert werden. ES 32 verfügt über eine intuitive benutzerfreundliche Benutzeroberfläche, wodurch es einfach zu bedienen und anzupassen ist. Es verfügt auch über erweiterte Analyse- und Simulationsmöglichkeiten, um die Ursache und Auswirkungen von Defekten zu ermitteln. Darüber hinaus kann die High-Speed-Wafer-Inspektionsoption des Werkzeugs auch kleinste Partikel und Defekte identifizieren, und die Dual-Mikroskopie-Bildgebung bietet qualitativ hochwertige Bilder für die Analyse. ES32 ist eine leistungsstarke Inspektionsanlage, die hochpräzise Scan- und Messfunktionen sowie integrierte Steuerungs- und Prozessanpassungsfunktionen bietet. Dieses Inspektionsmodell ist eine der fortschrittlichsten und effizientesten verfügbaren Masken- und Wafer-Diagnoselösungen und bietet Anwendern genaue Ergebnisse und eine zuverlässige Inspektionsplattform.
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