Gebraucht KLA / TENCOR eS32 #9354570 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS32 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die mit fortschrittlicher optischer Inspektions- und Messtechnik Defekte an Wafern und Dünnschichtmasken im Halbleiterherstellungsprozess erkennt. Seine optischen Strahlcharakteristiken sind auf maximale Auflösung und Präzision zugeschnitten, und seine Hochgeschwindigkeitserfassungselektronik ermöglicht eine schnelle Abbildung des Themas. Die KLA- eS32 ist in der Lage, Defekte auf k1/k2-Niveaus zu erkennen und kann Defekte mit Maskenmustern hoher Dichte aufdecken. Es kann auch Masken-KE-Bemaßungen, Ebenendicke und Schnittwinkel messen. Diese Erkennbarkeit wird durch die Verwendung des Rasterelektronenmikroskops erleichtert, das eine hochauflösende Abbildung der Wafer- und Dünnschichtmaskeneigenschaften ermöglicht. Seine fortschrittliche Systemarchitektur soll eine kontinuierliche Inspektion mit hohem Durchsatz über eine breite Palette von Wafer- und Dünnschichtmaskendurchmessern liefern. KLA-proprietäre Steuerungen für elektrische Quellen sind so konzipiert, dass sie sehr konsistente Verdampfungsraten bieten. Dies ermöglicht wiederholbare Ergebnisse auch in den anspruchsvollsten Anwendungen. TENCOR ES 32 bietet auch Hoch- und Niedrigenergie-Optionen für die Röntgeninspektion. Die hochenergetische Einheitsoption wird durch zwei Mikrofokus-Röntgenquellen ermöglicht, die einen hervorragenden Kontrast zwischen vorhandenen Wafer- und Maskenschichtfunktionen bieten. Die Low-Energy-Maschinenoption, ausgestattet mit 1.2mV Röntgenquellen, untersucht subtile Fehler in Wafer-gemusterten Funktionen. Die schnelle und einfache Steuerschnittstelle des Werkzeugs ermöglicht es dem Bediener, Verarbeitungsparameter auf der Grundlage spezifischer Produktionsanforderungen anzupassen. Um die Prozesssteuerung weiter zu verbessern, optimiert die Prozessanpassungssoftware von eS32 die Parameter mit jeder Phase des Inspektionsprozesses. Dies führt zu einer präzisen und vollständigen Inspektion von Maskenschichten mit hoher Genauigkeit. Die optimal kalibrierten Systeme von TENCOR eS32 sind darauf ausgelegt, komplette messtechnische Daten mit verbesserter Geschwindigkeit und Präzision bereitzustellen. Eine intuitive Bedienoberfläche ermöglicht eine effiziente Bedienung und umfassende Datenerfassung für die schnelle Analyse und Berichterstattung. Insgesamt ist KLA/TENCOR ES 32 eine hochentwickelte und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektion, die beispiellose Genauigkeit und Details bietet. Seine hochauflösenden optischen und messtechnischen Fähigkeiten ermöglichen eine präzise Erkennung von Defekten an Wafer- und Dünnschichtmasken, beschleunigen den Prozess und gewährleisten eine hohe Produktqualität.