Gebraucht KLA / TENCOR eS35 #9236715 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS35 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung und Behebung kritischer Defekte an Halbleitermasken und Wafern. KLA eS35 bietet überlegene Flexibilität und Geschwindigkeit, so dass sie schnelle, genaue Entscheidungen treffen kann, ohne Ertrag oder Präzision zu riskieren. Diese integrierte bildgebende Lösung kombiniert eine leistungsstarke Laserquelle, Bildkorrekturalgorithmen und fortschrittliche Fehlermanagementsoftware, um ein umfassendes Inspektionssystem für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Im Kern besteht TENCOR ES 35 aus einem großflächigen, hochauflösenden Luftbildsensor, einer Optikeinheit, einer integrierten Laserquelle und einem erweiterten Fehlerkorrekturalgorithmus. Die Laserquelle emittiert einen intensiven Lichtstrahl, der von der zu untersuchenden Scheibe oder Maske reflektiert wird. Dieser Lichtstrahl wird vom hochauflösenden Luftbildsensor erfasst und durch die Optikmaschine geführt. Das Optikwerkzeug ermöglicht extrem präzise Messungen der Form und Oberflächentopographie der Maske oder des Wafers. Der Fehlerkorrekturalgorithmus wird dann verwendet, um die Bilddaten mit einem Referenzbild zu vergleichen und eventuelle Fehler zu erkennen und zu korrigieren. TENCOR eS35 ist in der Lage, Defekte bis zu 0,004 Mikrometer zu erkennen und kann bis zu 10 verschiedene Schichten aus einer bestimmten Maske oder einem Wafer messen. Dies geschieht mit einem überlegenen Signal-Rausch-Verhältnis und einem hohen Dynamikbereich, was zu einer außergewöhnlichen Bildqualität führt. ES35 verfügt über eine vollautomatische Prozessüberwachung, die das Design der Maske oder des Wafers sehr früh validieren und eventuelle Änderungen während der Verarbeitung überwachen kann. KLA ES 35 kann auch verwendet werden, um bestimmte Merkmale auf Maske oder Wafer zu messen, die mit bloßem Auge nicht sichtbar sind. Es ist in der Lage, Merkmale so klein wie 0,008 Mikrometer zu messen, und es kann auch Fehler erkennen, die für das menschliche Auge unsichtbar sind. Dies ist inbegriffen, ist aber nicht auf Fehler beschränkt, die durch Verschmutzung, ungleichmäßige Kontakte, fehlerhafte Verkabelung und mehr entstehen können. ES 35 bietet Anwendern außerdem eine Reihe von Produktivitäts-Tools wie Fehlerverfolgung, Wafer-Management und eine digitale Fehlerbibliothek. All dies ist bei den Validierungsverfahren besonders hilfreich, um sicherzustellen, dass die Maske und der Wafer Qualitätssicherungs- und Produktintegritätsstandards erfüllen. Insgesamt ist KLA/TENCOR ES 35 ein unschätzbares Werkzeug für die Qualitätssicherung in der Halbleiterindustrie und eine große Ergänzung zu jedem Herstellungsprozess. Durch die Kombination von Hochleistungs-Laserquellen, hochauflösender Luftbildgebung und fortschrittlichen Fehlerkorrekturalgorithmen bietet es eine integrierte bildgebende Lösung mit beispielloser Genauigkeit und Geschwindigkeit.