Gebraucht KLA / TENCOR eS35 #9366100 zu verkaufen
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ID: 9366100
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
E-Beam inspection systems, 12"
2008 vintage.
KLA/TENCOR eS35 ist ein Hochleistungs-Masken- und Wafer-Inspektionsgerät. Es verbindet fortgeschrittene Optiksysteme, Hochgeschwindigkeitsbildfestnahmentechnologie und Eigentumssoftwarealgorithmen, um hoch robuste 3D-Metrologie für die Halbleiterindustrie zu bieten. Speziell ist es für den Einsatz in Serienumgebungen konzipiert, um fehlerfreie Mikrochips mit maximalen Erträgen herzustellen. KLA eS35 nutzt Laser-Scanning-Technologie und fortschrittliche bildbasierte Inspektion, um Messungen der 3D-kritischen Dimension (CD) und Topographie zu ermöglichen. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien zu messen, einschließlich fortgeschrittener Metalle, organische und Polymere. Das System wird von proprietärer Software gesteuert, die durch eine große Wissensbasis von halbleiterbezogenen Informationen unterstützt wird. Diese Wissensbasis macht das Gerät einfach zu verstehen und zu bedienen und bietet eine intuitive Schnittstelle, die eine schnelle Analyse und Kontrolle des Inspektionsprozesses ermöglicht. Darüber hinaus umfasst die Software Funktionen wie automatische Fehlererkennung und -klassifizierung, programmierbare Tests, umfassende Fehlerberichterstattung am Bildschirm und eine Bibliothek mit leistungsfähigen statistischen Analysetools. Einer der Hauptvorteile von TENCOR ES 35 ist die signifikante Reduzierung von Herstellungsfehlern. Durch die Erfassung prozessgetriebener Schwankungen zwischen Wafern und Masken kann die Maschine potenzielle Probleme lange vor der Massenproduktion von Chips erkennen, was zu mehr Fertigungsgleichmäßigkeit und besseren Gesamtchipausbeuten führt. Darüber hinaus kann das Werkzeug an die Bedürfnisse spezifischer Kunden angepasst werden und ermöglicht eine präzise Charakterisierung einzigartiger Produktionsprozesse. Auch KLA/TENCOR ES 35 ist benutzerfreundlich aufgebaut, da es sich nahtlos in bestehende Produktionsanlagen integrieren lässt. Seine modulare Architektur macht es besonders geschickt, komplexe High-Speed-Produktionsabläufe zu bewältigen, während seine Asset-Level-Diagnose und benutzerfreundliche Setup-Assistenten dazu beitragen, viele der gängigen Aufgaben im Zusammenhang mit der Herstellung von Wafern und Masken zu rationalisieren. Insgesamt ist das Masken- und Waferinspektionsmodell KLA ES 35 ein unschätzbares Werkzeug für die Halbleiterproduktion, das fortschrittliche 3D-Messtechnik, schnelle Fehlererkennung, programmierbare Tests und mehr bietet. Es bietet überlegene Präzision und Genauigkeit sowie ein drastisch reduziertes Ausschussrisiko bei Produktionsläufen. Mit der richtigen Konfiguration kann dieses Gerät konfiguriert werden, um den Herstellungsprozess zu optimieren, Kosten zu senken und den Gesamtdurchsatz zu verbessern.
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