Gebraucht KLA / TENCOR eS37L #9232829 zu verkaufen

KLA/TENCOR eS37L ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung physikalischer Defekte an lithographischen Masken und Wafern, die während des Halbleiterherstellungsprozesses verwendet werden. Es ist in der Lage, ultrakleine Defekte von bis zu 45 nm zu erkennen. Es verfügt über ein großes Sichtfeld, so dass es mehr als 30 Wafer oder Masken gleichzeitig abbilden und bis zu 140 Scanfelder pro Sekunde scannen kann. Darüber hinaus ist das System sehr adaptiv, da es neu konfiguriert werden kann, um spezifische kundenspezifische Erkennungsanforderungen in Reaktion auf sich ändernde Prozessanforderungen zu erfüllen. KLA eS37L unit verwendet fortschrittliche Bildgebungstechnologie, um Fehler an Masken und Wafern zu identifizieren, zu klassifizieren und zu erkennen. Dies wird durch zahlreiche optische Komponenten erreicht, darunter präzise Linsen und Lichtquellen. Es enthält auch proprietäre UCK-Technologie, einschließlich patentierter ARCSharp™ Apertur-Technologie und TeleSight™ Signalverarbeitungsalgorithmen. ARCSharp™ Technologie nutzt die Vier-Quadranten-Scan-Architektur, um die Bildgebungs- und Fehlererkennungsleistung zu verbessern. Die Maschine analysiert dann die Bilder, um die Form und Größe des Fehlers zu bestimmen, und identifiziert die Position auf dem Wafer oder der Maske. TENCOR eS37L-Tool verfügt über fortschrittliche Software, die eine automatische Fehlerklassifizierung und -überprüfung ermöglicht. Es verfügt auch über eine umfassende Reporting-Suite, die eine detaillierte Analyse der Inspektionsergebnisse ermöglicht. Darüber hinaus ist die Anlage vollautomatisiert und integriert sich in bestehende automatisierte Anlagen wie Wafer-Sortierer, Fördersysteme sowie Track-and-Trace-Systeme. Diese Integration trägt dazu bei, dass das Modell am effizientesten eingesetzt wird. ES37L Ausrüstung ist ein wesentliches Werkzeug für die effiziente und genaue Erkennung von Defekten an Masken und Wafern, die im Halbleiterherstellungsprozess verwendet werden. Die fortschrittliche Bildverarbeitungstechnologie, die automatisierte Fehlerklassifizierung und die umfassenden Berichtsfunktionen ermöglichen eine schnelle und genaue Fehlererkennung und -analyse, wodurch minimale physikalische Fehler erkannt werden können. Darüber hinaus tragen die Funktionen der Software-Integration dazu bei, dass das System effizient genutzt wird. KLA/TENCOR eS37L Einheit ist eine zuverlässige, effiziente Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine.