Gebraucht KLA / TENCOR EV300 #9019927 zu verkaufen

KLA/TENCOR EV300 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für den Einsatz in der Halbleiterindustrie, speziell für die hochauflösende Masken- und Waferinspektion. Das System kombiniert KLA-Waferinspektionstechnik und TENCOR-Maskeninspektionstechnik und bietet Kunden eine umfassende, leistungsstarke Inspektionslösung. KLA EV 300 ist aufgrund seiner integrierten Hard- und Software eines der schnellsten und leistungsstärksten verfügbaren Masken- und Wafer-Inspektionssysteme. Das Gerät hat eine maximale Abtastgeschwindigkeit von 17,4 μ m/sec und ermöglicht eine schnelle und effiziente Inspektion. Es ist auch mit einer fortschrittlichen optischen Bildgebungsmaschine und einem laserbeleuchteten Inspektionskopf ausgestattet, so dass es mikroskopische Defekte mit beispielloser Genauigkeit und Empfindlichkeit erkennen kann. Darüber hinaus ist das Tool mit einer patentierten Fokuskontrolle ausgestattet, die es ermöglicht, eine breitere Palette von Materialien mit mehr Genauigkeit als je zuvor zu scannen. TENCOR EV-300 Modell verfügt über eine benutzerfreundliche Schnittstelle, die es dem Benutzer ermöglicht, schnell und einfach auf verschiedene Inspektionsfunktionen zuzugreifen und diese zu steuern, wie z. B. Auswahl der zu prüfenden Bildfehler, Scanlayouts, Parametereinstellungen und Kalibriermodi. Darüber hinaus ist das Gerät in der Lage, mehrere Scans gleichzeitig auszuführen, was schnellere Ergebnisse ermöglicht. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche und seinen erweiterten Funktionen kann das System Halbleiterherstellern dabei helfen, Zeit und Geld zu sparen und gleichzeitig maximale Genauigkeit und Leistung zu erzielen. EV300 kommt auch mit einem leistungsfähigen Bildanalyse-Software-Paket, bietet einfach zu bedienende Fehlererkennung und Klassifizierung Tools. Die Software unterstützt auch Skripte, die eine komplexe Fehleranalyse und automatische Klassifizierung ermöglichen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über integrierte Kalibrierfunktionen, mit denen es sich automatisch an sich ändernde Umgebungs- oder Substratbedingungen anpassen kann. KLA EV300 Maschine bietet eine umfassende, leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionslösung mit ungleicher Geschwindigkeit, Genauigkeit und Empfindlichkeit. Die integrierte Hardware und Software, die benutzerfreundliche Schnittstelle, die schnelle Abtastgeschwindigkeit, das fortschrittliche optische Abbildungswerkzeug, der laserbeleuchtete Inspektionskopf und das leistungsstarke Bildanalysesoftwarepaket machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für jeden Halbleiterhersteller.