Gebraucht KLA / TENCOR EV300 #9088175 zu verkaufen

KLA/TENCOR EV300 ist eine hochpräzise Masken- und Waferinspektionsanlage zur Identifizierung von Metallisierungsfehlern. Es verwendet eine Kombination aus fortschrittlichen optischen Techniken, einschließlich Hellfeld und Dunkelfeld Bildgebung, sowie patentierte Mehrwinkel-Streuung bildgebende Technologie, um kritische Fehler zu erkennen und zu charakterisieren. Mit einem Scanbereich von bis zu 300mm kann KLA EV 300 eine breite Palette von Fehlertypen erfassen, einschließlich derjenigen in Vormetall- und Metallschichten von Photomasken. Das System besteht aus einer Breitfeld-Hochauflösungs-Infrarotkamera, die einen schnellen und genauen Überblick über den gesamten Wafer bietet, und mehreren optischen Detektoren, die detaillierte Bilder der vorhandenen Defekte liefern. Seine hohe Scanauflösung von bis zu 10 µm ermöglicht den Nachweis feiner Partikel, wie Partikel aus Ätz- oder Oxidschichten, sowie effektive Unterscheidungen zwischen Partikeln unterschiedlicher Größe und Form. Die Scangeschwindigkeit der Einheit, die bis zu 5 Hz erreichen kann, sorgt für schnelle Prozesszeiten. TENCOR- EV-300 können verwendet werden, um Fehler in Form, Größe und Position von Kontaktpads, Vias und Linien sowie an den Ecken und Kanten von Pads zu überprüfen. Es kann auch verwendet werden, um überschüssige Oxidation, Kontamination sowie Kratzer oder topographische Variationen der Abscheidungen zu identifizieren. Die Maschine verfügt über mehrere integrierte automatisierte Bildanalysefunktionen, die den Bedarf an manueller Inspektion und Interpretation erheblich reduzieren. TENCOR EV300 kommt mit einer intuitiven Benutzeroberfläche, so dass es einfach und benutzerfreundlich zu bedienen. Es ist kompatibel mit allen wichtigen fab-Prozessen, so dass eine einfache Integration und schnelle Inbetriebnahme. Das Tool unterstützt auch eine breite Palette von IT-Tools für die Vor- und Nachprozessanalyse und Berichterstattung. Durch den Einsatz modernster Technologien kann TENCOR EV 300 Herstellern helfen, chemisch markierte Partikel, die für den Erfolg der fortschrittlichen Lithographie entscheidend sind, schnell zu identifizieren und zu lokalisieren. Alles in allem ist KLA/TENCOR EV 300 eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die die Art und Weise der Fehleranalyse revolutioniert. Mit seinen hochauflösenden, automatisierten Bildanalysefunktionen und der benutzerfreundlichen Oberfläche ist KLA EV300 die perfekte Wahl, um kritische Fehler in der Metallisierung zu identifizieren.