Gebraucht KLA / TENCOR EV300 #9191448 zu verkaufen

KLA/TENCOR EV300 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die höchste Qualität fortschrittlicher Halbleiterbauelemente gewährleistet. Es bietet eine hervorragende Leistung bei der Messung, Validierung und Überprüfung von Funktionen sowohl an der Maske als auch an der Waferproduktion. Die SEM-Technologie (Rasterelektronenmikroskop) der KLA EV 300 ermöglicht die Entdeckung und Isolierung von Produktionsfehlern sowohl auf Masken- als auch auf Waferschichten. Seine Auflösungsfähigkeit ist deutlich größer als die eines herkömmlichen optischen Abbildungssystems. Auf diese Weise können TENCOR- EV-300 größere Mustergrößen mit verbesserter Messgenauigkeit und schnellerem Durchsatz überprüfen. Darüber hinaus bieten die proprietären FocSEM-Algorithmen von KLA/TENCOR EV-300 eine überlegene bildgebende Auflösung, wodurch Fehler leichter erkannt werden können, die mit herkömmlichen REI-Systemen unentdeckt geblieben sein könnten. KLA EV300 Einheit ermöglicht auch die gleichzeitige Überprüfung einer Vielzahl von Funktionen auf der Maske und Wafer einschließlich Linien, Kanten, Vias, Kontaktpads und Drähte. Darüber hinaus verfügt es über einen integrierten Validierungsalgorithmus, der sowohl auf Spacer als auch auf Alignment-per-die überprüft. KLA/TENCOR EV 300 Maschine enthält auch KLA proprietäre ScanType Layout-Messlösungen (STM), die eine Pixelgenauigkeit jedes Musters auf Maske und Wafer ermöglichen. Darüber hinaus bietet die Renalogix-Inspektionssuite des EV-300 eine gründliche Inspektions-/Fehleranalyse von kritischen Defekten, Ertragsüberwachung und Werkzeugleistungstrends. TENCOR EV300 umfasst auch eine Reihe von spezialisierten Werkzeugen. Diese spezialisierten Softwarepakete bieten eine zusätzliche Analyse von Masken- und Wafermustern. TENCOR Defect Analysis Solution (DAS) Modul bietet eine einfach zu bedienende Lösung zur Analyse, Klassifizierung und Filterung von Fehlerdaten und liefert detaillierte Informationen zu Fehlern und deren Größe, Form, Lage und Orientierung an Maske und Wafer. Die KLA/TENCOR Alignment Certification Suite (ACS) bietet Visualisierungstools zur Analyse von Ausrichtungsfehlern sowie zur Messung von Größe, Rotation und Positionsverschiebungen ab dem ersten Entwurf. EV 300 verfügt über die fortschrittlichen Software- und Hardwaresteuerungssysteme, die für moderne Prozesskontrolle und Qualitätssicherung benötigt werden. Es umfasst eine robuste Kombination von Steuerungsfunktionen, wie automatisierte Stufenkalibrierung, Wafergrößenerkennung, Waferselektivität, Mustererkennung, Vorwärts-/Rückwärts-/Reflexionsmusternähte, automatisierte Fehleranalyse und -berichterstattung sowie erweiterte Inspektionsalgorithmen und Software. All diese Funktionen machen TENCOR EV 300 zu einer leistungsfähigen und effektiven Masken- und Wafer-Inspektion. EV300 ist sowohl hochautomatisiert als auch einfach zu bedienen, so dass es schnell in bestehende Produktionsprozesse integriert werden kann. Es kann auch mit neuen Prozess-Herausforderungen als Folge seiner hoch konfigurierbaren Feature-Set zu halten. Mit diesem Modell können Anwender sicher sein, dass ihre Produkte die strengsten Qualitätsstandards erfüllen.