Gebraucht KLA / TENCOR EV300 #9267083 zu verkaufen

KLA/TENCOR EV300 ist eine vollautomatische, hochauflösende Masken- und Waferinspektionsanlage für kritische optische und messtechnische Anwendungen. KLA EV 300 nutzt die fortschrittliche Laserscanning-Interferometrie (LSI) -Technologie, um eine überlegene Fehlererkennung und eine schnelle Ertragsbewertung über eine breite Palette von Plattformen für Masken- und Wafertechnologie bereitzustellen. Der hohe Durchsatz und die verbesserte Produktivität des Systems ermöglichen eine schnellere Umdrehung und senken die Betriebskosten. TENCOR EV-300 umfasst eine proprietäre Vision-basierte Einheit, die Hochdurchsatz, Echtzeit-Bildgebung mit Phasenverschiebung und Intensitätsbildgebung für Masken- und Waferinspektionsanwendungen ermöglicht. Diese Maschine ermöglicht die Inspektion von großformatigen Masken, einschließlich organischer und anorganischer Masken, sowie Standard-Flachbildschirmsubstraten mit einer Auflösung von mehr als 0,2 µm. Die Ermöglichung von Phasenschiebefunktionen für die Masken- und Substratinspektion bis 0,1 nm ermöglicht die Erkennung kritischer Defekte, die sonst mit herkömmlichen Maskeninspektionstechnologien nicht erkennbar bleiben. Die KLA EV300 umfasst auch einen Laserscanner, der auf optimalen Durchsatz und Flexibilität bei gleichzeitiger Bildgebung und genauer Fehlererkennung ausgelegt ist. Dies wird durch eine zum Patent angemeldete Strahllenkaktuator-Technologie erreicht, die eine verbesserte Abtastratenoptimierung und einfache Kalibrierung ermöglicht. Der Laser-Scan-Motor wurde entwickelt, um Mikrodefekte auf Masken und Substraten zu erkennen, während ein dediziertes Wellenfront-Interferometer Phasenschiebefunktionen für genauere Inspektionen bietet. KLA/TENCOR EV-300 umfasst auch eine integrierte Suite von Software-Tools, um die Prozesssteuerung zu verbessern und die Produktivität zu verbessern. Die Software verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI), die die Inspektion und Analyse komplexer, mehrschichtiger Masken vereinfacht. Darüber hinaus ermöglicht die Anpassung der Benutzeroberfläche eine einzigartige Benutzererfahrung und einen automatisierten Workflow. Darüber hinaus umfasst die Software auch Prozesscharakterisierungs- und Analysefunktionen wie Datenanalyse, Fehlererkennung, Charakterisierung und Testoptimierung. Insgesamt ist KLA/TENCOR EV 300 eine fortschrittliche, vollautomatisierte Masken- und Wafer-Inspektion, die für kritische optische und messtechnische Anwendungen entwickelt wurde. Die Kombination aus Hochdurchsatz-Bildgebungsfunktionen, Laserscanning und dedizierter Wellenfront-Interferometrie erleichtert die Fehlererkennung und die Ertragsbewertung und reduziert so die Betriebskosten und verbessert die Prozesskontrolle. Mit der Fähigkeit, organische und anorganische Masken, Standard-Flachbildschirme und Mikrodefekte zu überprüfen, maximiert EV-300 die Effizienz für eine Vielzahl von Anwendungen.