Gebraucht KLA / TENCOR EV300 #9399037 zu verkaufen

KLA/TENCOR EV300 ist eine fortschrittliche Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um eine breite Palette von Mängeln zu erkennen, zu charakterisieren und zu beheben. Dieses System kombiniert hochauflösende optische Bildgebung, programmierbare Fehlerüberprüfung, Fehlervermeidung und Korrekturautomatisierungstechnologie, um eine hervorragende Waferinspektionsleistung zu bieten. Die optische Bildgebungstechnologie des Geräts ist in der Lage, Fehler bis zu 0,25 Mikrometer zu erkennen. Diese hochempfindliche Bilderzeugungsmaschine ist für die Untersuchung von Masken- und Wafermustern optimiert und ermöglicht hochgenaue Inspektionsergebnisse. Das programmierbare Fehlerüberprüfungstool des Werkzeugs ermöglicht die automatisierte Erkennung und Klassifizierung verschiedener Fehler. Das Werkzeug ist programmiert, um unter anderem Schalt-, Weichzeichnungs-, Heft- und OPC-Fehler zu erkennen und zu klassifizieren. Das Asset verfügt zudem über eine Fehlervermeidungstechnologie zur Reduzierung der Anzahl der Falsch-Positiven bei der Prüfung und Behebung der festgestellten Mängel. KLA EV 300 beinhaltet auch eine ausgeklügelte Korrekturautomationstechnologie. Mit dieser Technologie werden automatisch Korrekturmaßnahmen wie Musterposition, Neuorientierung und Reinigung durchgeführt. Dieser Korrekturvorgang ist so optimiert, dass kein Fehler verpasst oder unbeaufsichtigt bleibt. Das Modell verfügt zudem über eine sichere Kommunikationsschnittstelle, die den Datenaustausch zwischen Gerätekomponenten erleichtert. Dies ermöglicht die Integration anderer UCK-Systeme, wie der SEMVisionTM Suite und des ALINX automatisierten Fehlerüberprüfungssystems. TENCOR EV-300 Einheit ist entworfen, um die höchsten Ebenen der Wafer und Maske Inspektion Leistung zu bieten, um sicherzustellen, dass Geräte defektfrei und bereit für die Produktion sind. Diese Maschine eignet sich daher sowohl für den Einsatz in der Forschung als auch in der industriellen Produktion.