Gebraucht KLA / TENCOR FLX-5200 #9148242 zu verkaufen

KLA/TENCOR FLX-5200 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die erweiterte Bildgebungs- und Datenanalysefunktionen bietet, um Mikrodefekte und andere Arten von Verunreinigungen zu ermitteln. Es ist ein wertvolles Werkzeug zur Identifizierung von Problemen auf Oberflächen- und Unterflächenebene, die die Integrität eines Wafers oder einer Maske beeinträchtigen können. Hauptziel des UCK FLX-5200 Inspektionssystems ist es, Fehler und Verunreinigungen an Proben wie montierten Wafern, Photomasken, Masken und Retikeln zu erkennen und zu charakterisieren. Das Gerät wurde speziell entwickelt, um Muster zu untersuchen, die zwischen 25nm und 6 μ m messen, was es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von mikroelektronischen Fertigungsprozessen macht. TENCOR FLX 5200 nutzt fortschrittliche bildgebende und analytische Funktionen, um aussagekräftige Daten über den gesamten Inspektionsprozess zu liefern. Durch drei- und vierseitige Bildgebung, die eine Mischung aus weißen, ultravioletten (UV) und optischen Knoten umfasst, werden Daten von allen Seiten des Geräts gesammelt - von oben nach unten, innen nach außen, seitwärts, rückwärts und mehr. Diese Daten werden dann automatisiert analysiert und gemeldet, was ein effizientes und genaues Bild des geprüften Objekts liefert. KLA/TENCOR FLX 5200 verfügt auch über ultrahochauflösende Bildgebung und verbesserte Fokussierungsfunktionen, die es dem Benutzer ermöglichen, kleinste Details auf der Waferoberfläche zu vergrößern und zu überprüfen. Dies ist ideal zur Identifizierung von Partikeln und anderen Verunreinigungen auf nanoskaliger Ebene. Zur weiteren Verbesserung des Inspektionsprozesses umfasst die Maschine automatisierte Ausrichtungen und Messungen, die Merkmale auf der Oberfläche und im Substrat berücksichtigen. Das Tool ist auch mit einer intuitiven Bedienoberfläche und fortschrittlichen Bildgebungstechniken ausgestattet. Diese Kombination macht es einfach, das Asset einzurichten, Daten zu erfassen und umsetzbare Berichte zu generieren. Kurz gesagt, FLX-5200 ist ein modernes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das Hochgeschwindigkeitsbilder, automatisierte Messungen, intuitive Steuerungen und verbesserte Fokussierungsfunktionen für zuverlässige Erkennungen und Charakterisierungen von Defekten und Verunreinigungen in einer Vielzahl von Substraten bietet. Es ist ein unschätzbares Werkzeug zur Gewährleistung der Genauigkeit und Qualitätskontrolle in der Mikroelektronikfertigung.