Gebraucht KLA / TENCOR FLX 5200H #9148307 zu verkaufen

KLA/TENCOR FLX 5200H ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für Messungen kritischer Dimensionen (CD) mit hohem Durchsatz ausgelegt ist. Das System nutzt erweiterte optische Bildgebungs- und Messtechnikfunktionen, um unter 50nm Leistungsstufen mit unübertroffener Auflösung und Genauigkeit zu versehen. Das Gerät ist für eine breite Palette von Muster- und Prozessinspektionsaufgaben geeignet, von kleinen Maskenmerkmalen bis hin zu großen photolithographischen Strukturen. KLA FLX 5200H verfügt über ein zweiachsiges Galvanometer-Design mit großer Aperturoptik und einem Spannfutter für bis zu 200mm Wafer. Die Optik der Maschine ist in einer optischen Bank angeordnet und ermöglicht bis zu 6 unabhängige Prüfwege für unterschiedliche Messaufgaben. Die Optik besteht aus einer Laser FabSuite aus Objektiven, Filtern und Detektoren zur Optimierung der spektralen Genauigkeit und zur Ermöglichung einer hohen Auflösung. Eine Waferstufe in voller Größe ermöglicht stabile Messergebnisse bei präziser Ausrichtung. TENCOR FLX 5200H wurde entwickelt, um die anspruchsvollen Anforderungen an Muster und Prozesse der Halbleiterindustrie mit einer Vielzahl von Inspektionsaufgaben und Anwendungen zu erfüllen. Das Tool bietet eine überlegene Fokustiefe, die eine schnelle aCIS-Bildaufnahme ermöglicht, und die bestmögliche Messtechnik verwendet 100x Vergrößerung für die genauesten CD-Messfähigkeiten. Darüber hinaus kann die Anlage eine breite Palette von Maskeninspektionen durchführen, die helfen können, Fehler zu identifizieren und die genauesten Ergebnisse zu gewährleisten. FLX 5200H nutzt fortschrittliche Bildverarbeitungs- und Analysealgorithmen in Verbindung mit einem ausgeklügelten Computermodell. Integrierte Rezeptverarbeitung und Codierung ermöglichen ein schnelles Prototyping mit möglichst effizientem Datenmanagement. Die Ausrüstung läuft auf spezialisierte Software für High-Speed und High-Volume-Inspektion geschrieben. KLA/TENCOR FLX 5200H ist ein fortschrittliches, hochspezifisches Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das die genauesten und genauesten Inspektions- und Messtechnik-Messungen in einer automatisierten Umgebung ermöglicht. Die laserbasierte Optik, die zweiachsige Bewegung und die hochauflösende Waferstufe garantieren die Qualität der Messergebnisse, während die flexible Software und die einfache Integration in Wafer-Fab-Prozesse eine Normalisierung und Optimierung für verschiedene Anwendungen ermöglichen.