Gebraucht KLA / TENCOR FLX-5400 #9118978 zu verkaufen

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ID: 9118978
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996-1998
Automated thin film stress measurement systems, 8" Throughput of 60 wafers per hour Dual wavelength technology 1996-1998 vintages.
KLA/TENCOR FLX-5400 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die führende Inspektionstechnologien verwendet, um eine genaue und zuverlässige Fehlererkennung und -klassifizierung zu gewährleisten. Dieses System ist sowohl für die Herstellung von Wafern mit hohem Volumen als auch für die Herstellung von Masken ausgelegt. KLA FLX-5400 ist eine Doppelfeldeinheit bestehend aus einem optischen Inspektionsmodul und einem Defokus-Detektionsmodul. Das optische Modul enthält ein ultraschnelles LED-Array zur Beleuchtung und optischen Bilderfassung und ist für die Inspektion von Merkmalsmustern ausgelegt. Das Defokus-Detektionsmodul verwendet eine fortgeschrittene optische Linsenmaschine, um extrem kleine Defekte in der Struktur des Wafers zu erkennen. TENCOR FLX 5400 wurde entwickelt, um auch bei der Inspektion einer großen Anzahl von Wafern einen hohen Durchsatz zu bieten. Dieses Werkzeug ist sowohl mit einem Hochgeschwindigkeits-Abtastkopf als auch mit einem Hochleistungs-Datenprozessor ausgestattet und ermöglicht so flexible und effiziente Halbleiterherstellungsprozesse. Der Vermögenswert kann Fehler bis zu 0,5 Mikrometer (μ m) erkennen. KLA/TENCOR FLX 5400 verfügt über eine granulare Fehlerklassifizierung. Mit dieser Funktion kann das Modell erkannte Fehler in mehrere Klassen gruppieren, um die Analyse nach der Inspektion zu vereinfachen. Darüber hinaus werden die Software-Algorithmen der Geräte auf eine verbesserte Fehlerberichterstattungsgenauigkeit abgestimmt. TENCOR FLX-5400 ermöglicht eine automatisierte Systemkalibrierung und bietet netzwerkgebundene Fernüberwachungsfunktionen. Darüber hinaus bietet diese Einheit eine integrierte Gesamtmaschinenanalyse für eine umfassende Waferanalyse und -berichterstattung. In Bezug auf Software verfügt FLX 5400 über leistungsstarke erweiterte Analysewerkzeuge für erweiterte Fehlercharakterisierung und Messtechnik. Darüber hinaus verbessert die benutzerfreundliche Softwareschnittstelle die Benutzerfreundlichkeit durch Funktionen wie Touchscreen-Betrieb, Icon-basierte Menüstruktur und eine leistungsstarke Back-End-Datenbank. FLX-5400 ist sowohl in der Lage, mehrsprachige Benutzerunterstützung und globalen Zugriff, so dass es eine gute Wahl für globale Maske und Wafer Inspektion. Dieses Tool entspricht mehreren normativen Standards, einschließlich SEMI-Standards, sodass Benutzer auf seine Zuverlässigkeit vertrauen können. Insgesamt ist KLA FLX 5400 eine leistungsstarke und genaue Masken- und Wafer-Inspektion, die hilft, die Qualität im Prozess der Halbleiterherstellung sicherzustellen. Mit leistungsstarken Funktionen wie automatisierter Modellkalibrierung, Fehlerklassifizierung und kostengünstigem Betrieb ist KLA/TENCOR FLX-5400 eine gute Wahl für Wafer- und Maskeninspektionsanwendungen.
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